新型中高溫太陽能選擇性吸收涂層的制備與研究.pdf_第1頁
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2、閱人2011年4月武漢理工大學碩士學位論文中文摘要自20世紀50年代以來,太陽光譜選擇性吸收涂層的研制一直是太陽能光熱利用技術領域中一項十分活躍的研究課題,國內(nèi)外眾多學者在涂層的材料選擇、結構設計及制備工藝方面做出了大量的工作,一系列的涂層體系已被研制出來。然而,這些涂層都存在各自的不足之處,難以實現(xiàn)中高溫條件下的工業(yè)實際應用。因此,需要綜合考慮各方面的因素,尋求一種新的工藝與新的材料體系,研制一種中高溫性能穩(wěn)定,能夠大面積工業(yè)化生產(chǎn),

3、制備成本較低的新型光譜選擇性吸收涂層,以促進我國太陽能光熱技術的發(fā)展。本文采用等離子噴涂(APS)工藝制備了NiNiOA1203金屬陶瓷型選擇性吸收涂層,采用超音速火焰噴涂(HVOF)工藝制備了NiMo金屬型選擇性吸收涂層,并以溶膠一凝膠薄膜技術為輔助方法,制備得到Sn02/NiNiOA1203、A1203/NiMo復合涂層。應用XRD、SEM、EDS、分光光度計、紅外光譜儀等測試手段對涂層和復合粉末的組成、結構、形貌及性能進行了表征與

4、分析,主要研究了涂層的表面形貌、組分比例、表面處理及熱處理對其光譜選擇性吸收性能的影響。研究結果表明,NiNiOA1203涂層呈變形顆粒堆疊的多孔層狀結構,其表面為粗糙不平的漫反射型表面。涂層厚度對其光學性能影響較小;隨所用復合粉末中金屬Ni含量增加,制備的涂層的伐與£均逐漸降低,品質因子毗逐漸增大,當粉末中Ni的質量分數(shù)為60%時,相應涂層的選擇性吸收性能最佳,a為085,£為068,a/£達125。表面處理對NiNiOA1203涂層

5、光學性能影響較大,涂層經(jīng)拋光處理后,a與£均減小,但眺得到提高;鍍膜處理后得到的Sn02/Ni_NiOA1203復合涂層,其光學性能較未鍍膜前得到明顯改善,a增至086,£大幅降至050,但由于涂層表面較大孔洞所形成的光學陷阱,使£難以進一步降低。耐熱性能測試結果表明,NiNiO—A1203涂層與復合涂層在300℃以下均具有較高的熱穩(wěn)定性,經(jīng)500℃處理后復合涂層的耐熱性能更好。NiMo金屬型涂層主要由Ni,Mo及NiO三相組成,其表面

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