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![M2SiO4(M=Sr,Ba)長余輝發(fā)光材料的合成與發(fā)光性能研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/18/be531edc-913c-4f93-9c28-305712f4e7f6/be531edc-913c-4f93-9c28-305712f4e7f61.gif)
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文檔簡介
1、稀土摻雜硅酸鹽是一類新型節(jié)能環(huán)保材料,由于其具有蓄光放光的功能因此備受人們青睞,而且亮度高、色彩豐富、余輝時間長的優(yōu)點使其產品得到了商業(yè)化生產,但同時也存在紅色區(qū)域的發(fā)光不是很理想,合成溫度比較高等缺點。另外,對發(fā)光機理的研究也尚未達成共識,所以這類材料仍然是人們的研究熱點。
Eu2+離子是最常用到的一種稀土摻雜離子,大多的情況下其在基質中都是做發(fā)光中心。Eu2+離子的電子結構為:4f75d0,其發(fā)光是由4f65d1-4f
2、75d0躍遷所而導致的,因為5d殼層的電子能級是裸露的,受到外界晶體場影響很大,所以在不同的基質晶體場中,5d能級被劈裂程度會不同,從而導致了Eu2+離子的發(fā)光存在著很大的區(qū)別。本文采用高溫固相反應合成了M2SiO4:Eu2+(Dy3+)(M=Sr,Ba)基質材料,為了研究Eu2+離子在基質中的發(fā)光,我們在原料中不斷改變摻入Dy3+、Ba2+以及Sr2+離子的量,并討論了Dy3+的離子的摻入對基質發(fā)光性能所產生的影響。同時討論了起始反應
3、物中鍶(鋇)的比例對樣品結構,光致發(fā)光波長,發(fā)光強度,發(fā)射峰的峰位以及余輝特性的調控作用,并且根據(jù)熱釋光特性對樣品進行了分析。
采用高溫固相法在弱還原的氣氛下合成了Sr1.97SiO4:Eu2+0.03高亮度的長余輝材料。通過X射線衍射(XRD)分析發(fā)現(xiàn)所制得的樣品屬于α'-Sr2SiO4斜方晶系結構;樣品的光致發(fā)光特性表明,在320nm激發(fā)光的照射下,出現(xiàn)峰位為490nm的寬帶發(fā)射峰。樣品余輝特性顯示:樣品的余輝衰減特性
4、符合雙指數(shù)衰減。在溫度20℃-325℃內樣品有4個熱釋光峰,峰值溫度分別在73℃,147℃,183℃,279℃附近。不同的等待時間熱釋光曲線表明:在衰減過程中,熱釋光峰位置發(fā)生移動,顯示材料中存在缺陷能帶;同時不同深度的陷阱衰減規(guī)律不同,表明了陷阱之間存在著電子轉移現(xiàn)象。
采用高溫固相法制備了Sr1.99SiO4:Eu2+0.01,,和Sr1.98SiO4:Eu2+0.01,Dy3+0.01長余輝發(fā)光材料,XRD表明樣品均
5、為α'-Sr2SiO4斜方晶系結構,光致發(fā)光表明,樣品均以Eu2+離子為唯一的發(fā)光中心,但共摻雜時樣品的激發(fā)與發(fā)射強度得到顯著的增強。共摻雜的Dy3+離子在基質中不做為發(fā)光中心,但起了能級陷阱的作用,能促進發(fā)光材料的發(fā)射。余輝特性曲線顯示,樣品余輝均由一個快衰減過程和一個慢衰減過程組成,符合雙指數(shù)衰減規(guī)律,且共摻雜時的初始余輝強度比單摻雜的初始余輝強度更強,熱釋光特性表明,共摻雜比單摻雜時的陷阱能級的種類和濃度都有所增加,通過位形坐標模
6、型并結合能帶理論對其結果進行了分析。
采用高溫固相反應,在弱還原氣氛下,1350℃下保溫3.5個小時,并在N2作為保護氣體下冷卻至室溫。按化學式Sr2-xBax SiO4:Eu2+,Dy3+(x=0,0.5,1,1.5,2)配比原料,合成長余輝發(fā)光材料。X射線衍射分析(XRD)表明所得到的產物均為α'-Sr2SiO4斜方晶系結構,但是樣品的XRD峰位隨著Ba2+離子摻入量的增加,峰位往低角度方向偏移,這是由于隨著Ba2+離
7、子取代Sr2+離子格位從而引起晶格膨脹所導致的。對所得樣品采用367nm進行激發(fā),發(fā)射光譜表明樣品發(fā)光是以Eu2+為發(fā)光中心,發(fā)光是由Eu2+離子中電子的4f65d1-4f75d0躍遷所致,并且隨著Ba2+離子摻入量的增加,樣品的發(fā)光強度得到了顯著的增強,同時樣品發(fā)射光譜峰位發(fā)生藍移現(xiàn)象,這同樣也是由于Ba2+取代Sr2+離子格位,導致晶格膨脹,從而影響Eu2+離子的5d能級劈裂情況,進而影響電子4f65d1-4f75d0躍遷。余輝光譜
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