天冬氨酸-賴氨酸共聚物的微波輻射合成及阻垢性能研究.pdf_第1頁(yè)
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1、聚天冬氨酸(Polyaspartic acid,簡(jiǎn)稱PASP)是一種生物高分子,兼具良好的阻垢能力、水溶性和可生物降解性。但受聚合物內(nèi)部結(jié)構(gòu)、官能團(tuán)位置與數(shù)量的限制,聚天冬氨酸的綜合阻垢性能不夠突出。為了增強(qiáng)聚天冬氨酸的阻垢能力,本文選擇 L-天冬氨酸和賴氨酸作為共聚單體,在微波輻射的條件下對(duì)聚天冬氨酸進(jìn)行改性研究,并對(duì)改性聚天冬氨酸的阻垢性能、配伍性進(jìn)項(xiàng)行簡(jiǎn)單評(píng)價(jià)。本研究對(duì)環(huán)境友好型阻垢劑的發(fā)展具有積極意義和參考價(jià)值。
  首先

2、,以賴氨酸(Lys)作為天冬氨酸(Asp)的共聚單體,用微波輻射替代傳統(tǒng)加熱,成功合成了天冬氨酸-賴氨酸共聚物(PAL)。該工藝是以N,N-二甲基甲酰胺為溶劑、KH2PO4為催化劑的反應(yīng)體系。以PAID產(chǎn)率和PAL阻垢效果為評(píng)價(jià)指標(biāo),對(duì)反應(yīng)體系及聚合條件進(jìn)行優(yōu)化時(shí),綜合考慮聚合反應(yīng)中間產(chǎn)物—聚琥珀酰亞胺衍生物(polysuccinimide derivative,PSID)的產(chǎn)率和PAL的阻垢性能,確定n(Asp):n(Asp+Lys)

3、=0.5,催化劑為KH2PO4,n(KH2PO4):n(Asp+Lys)=0.08,溶劑用量為16ml,微波時(shí)間10min,微波功率為1200w時(shí)所得共聚物對(duì)硫酸鈣的阻垢效果最好,中間產(chǎn)物的產(chǎn)率在90%以上。
  為了明確該共聚反應(yīng)的歷程和微波作用,利用IR光譜和1H NMR、13C NMR譜對(duì)中間產(chǎn)物(PSID)和天冬氨酸-賴氨酸共聚物(PAL)進(jìn)行了結(jié)構(gòu)表征,結(jié)果表明,改性產(chǎn)物表現(xiàn)出共聚物的特征。
  為考察 PAL作為

4、阻垢劑的可行性,選擇常見垢型硫酸鈣、磷酸鈣、三氧化二鐵,分別研究PAL對(duì)上述垢型阻垢效果,并考察PAL分子量、藥劑投加量及水質(zhì)條件對(duì)PAL阻垢效果的影響。
  通過靜態(tài)阻垢試驗(yàn)對(duì) PAL對(duì)硫酸鈣、磷酸鈣、三氧化二鐵阻垢性能進(jìn)行分析研究,并與PASP作對(duì)比。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,對(duì)于以上三種垢型,PAL在阻垢效果上好于PASP,在水質(zhì)條件的影響下PAL相比于PASP表現(xiàn)的更穩(wěn)定,賴氨酸的引入提高了其綜合阻垢性能;在阻CaSO4垢方面,PAL

5、濃度為10mg/L,Ca2+濃度3000mg/L時(shí),PAL阻垢率達(dá)到90%以上;在阻Ca3(PO4)2、Fe2O3垢方面,PAL表現(xiàn)出一定的阻垢作用,但整體阻垢效果不夠突出,需要進(jìn)一步改進(jìn)。
  PAL具有優(yōu)良的配伍性,針對(duì)CaSO4、Ca3(PO4)2、Fe2O3三種垢型,PAL與HPMA、HEDP、ATMP的最佳復(fù)配比例分別為質(zhì)量比3:1、2:1、1:2。復(fù)配產(chǎn)物的阻垢效果和穩(wěn)定性明顯優(yōu)于單體,且具較高阻垢率。PAL的復(fù)配產(chǎn)物

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