電沉積β-PbO-,2-及其性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、浙江師范大學(xué)碩士學(xué)位論文電沉積βPbO及其性能研究姓名:邵玉田申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專業(yè):物理化學(xué)指導(dǎo)教師:牛振江20080601電沉積pPb02膜及其性能研究(3)p—Pb02:溶液為06mol/LPb(N03)2,04mol/LHN03,001mol/LNaF,溫度65。C,以不銹鋼/Ni/0【Pb02為工作電極(陽極),鉛片為對(duì)電極,恒電位16V(vsSCE)沉積。2Ni/a—Pb02/pPb02的表面形貌、結(jié)構(gòu)及其性能XRD分析表明

2、酸性條件下得到的活性層主要是]]Pb02。添加Ni、Q—Pb02鍍層對(duì)活性pPb02的晶面擇優(yōu)和表面形貌有顯著影響。但添加層沉積時(shí)間對(duì)13Vb02的表面形貌沒有明顯影響。在10mol/LH2S044一甲基吡啶溶液中,添加層Ni、0【Pb02鍍層及其沉積時(shí)間對(duì)Ni/0【Pb02/p—Pb02電極電催化氧化4甲基吡啶的活性有顯著的影響。當(dāng)添加層Ni、0【一Pb02和]]Pb02的沉積時(shí)間分別為300S、240s和400s條件下得到的Ni/a

3、Pb02/pPb02電極電氧化4一甲基吡啶的活性E=—JL最咼。3電沉積納米多孔Pb02鍍層及其性能在O4mol/LHN03001mol/LNaF(1~200)mmol/LPb(N03)2的溶液中,在高度陽極極化條件下,首次采用恒電位沉積法制備具有均勻分布的納米孔表面形貌的Pb02鍍層,研究了沉積電位、鍍液中Pb2離子的起始濃度、沉積溫度以及沉積時(shí)間Pb02鍍層表面形貌的影響。結(jié)果表明沉積電位、Pb2離子濃度、鍍液溫度和沉積時(shí)間對(duì)納米孔

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