1、電沉積法制備納米晶材料是一種備受關(guān)注的納米材料制備方法，而高速電沉積在提高制備速度和效率的同時(shí)也在一定程度上提高了所制備材料的性能。噴射電沉積、磨擦電沉積和脈沖電沉積都是實(shí)現(xiàn)高速電沉積的有效手段，且該三種方法各有特點(diǎn)，本文將脈沖電沉積和磨擦電沉積同時(shí)引入到噴射電沉積中，提出了研磨脈沖噴射電沉積這一新工藝。在噴射電沉積的基礎(chǔ)上輔以脈沖電源，同時(shí)利用噴射電沉積局部沉積的特點(diǎn)對(duì)非沉積區(qū)域采用硬質(zhì)粒子進(jìn)行研磨。同樣利用噴射電沉積局部沉積的特點(diǎn)提

2、出了一種多元陣列噴射電沉積制備多層膜的全新的工藝方法。
　　 本文主要研究?jī)?nèi)容如下：
　　 (1)理論上論證將噴射電沉積、磨擦電沉積和脈沖電沉積結(jié)合的可行性，以原有噴射電沉積設(shè)備為基礎(chǔ)組建研磨脈沖噴射電沉積系統(tǒng)。
　　 (2)利用組建的試驗(yàn)系統(tǒng)在各參數(shù)條件下制備納米晶Ni，采用掃描電鏡(SEM)、表面三維形貌儀、透射電鏡(TEM)、X射線衍射(XRD)以及電化學(xué)腐蝕等分析手段，對(duì)沉積層的表面形貌、微觀組織結(jié)構(gòu)和性

3、能進(jìn)行了檢測(cè)與分析。并與普通噴射電沉積制得的Ni沉積層進(jìn)行各方面的比較，發(fā)現(xiàn)該新方法對(duì)沉積層表面具有顯著的除瘤和整平作用，使沉積過程中的宏觀表面始終較為平整、光滑，并能夠細(xì)化晶粒；其顯微硬度和抗腐蝕性能顯著提高。
　　 (3)利用測(cè)試結(jié)果分析研究平均電流密度、脈沖占空比、脈沖頻率和陰極轉(zhuǎn)速等工藝參數(shù)對(duì)所制得的納米晶Ni結(jié)構(gòu)和性能的影響。
　　 (4)構(gòu)建了一套多元陣列噴射電沉積系統(tǒng)，利用該系統(tǒng)制備不同工藝參數(shù)和具有不同調(diào)