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![CH_4-H_2系統(tǒng)電子助進化學氣相沉積氣相過程研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/11/10/c6e84b5c-616f-4a7d-8c69-6b9c190e8abf/c6e84b5c-616f-4a7d-8c69-6b9c190e8abf1.gif)
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文檔簡介
1、本工作采用蒙特卡羅(Monte-Carlo)計算機模擬的方法,對以CH_4/H_2為源氣體的電子助進化學氣相沉積(EACVD)金剛石薄膜中的氣相分解過程進行了研究,初步建立了EACVD氣相動力學模型,并討論了EACVD中的低溫沉積過程。主要結(jié)果如下:平均電子能量隨著反應室內(nèi)氣壓的增加呈下降趨勢;在較低氣壓范圍內(nèi)平均電子能量隨著反應源氣體中甲烷濃度的增加而減少;在較高氣壓范圍內(nèi)平均電子能量則隨著甲烷濃度的增加而增加;隨著氣壓的增加碎片H和
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