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![集成片上閃爍層X射線傳感陣列研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/11/11/f34b7a43-a951-456d-8972-1eb349822779/f34b7a43-a951-456d-8972-1eb3498227791.gif)
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文檔簡介
1、X射線傳感器廣泛應用于醫(yī)療、工業(yè)探測及科學研究中,它能幫助人們觀察到很多肉眼觀察不到的人體或物體的內部結構。目前主流的X射線傳感器大都采用閃爍層先將入射的X射線轉換為熒光(該熒光為可見光)后,再利用半導體光電探測出閃爍層發(fā)出的熒光,最終形成了X射線傳感器。在眾多種類的閃爍體當中,由于摻鉈碘化銫(CsI(T1))光產額較大,不易潮解等優(yōu)點而成為X射線探測器中閃爍體的首選。針對CsI(T1)的熒光光譜范圍及熒光光強微弱的特點,開展了適合于探
2、測CsI(T1)熒光的光電傳感陣列研究。
本文通過理論分析、器件建模以及實際工藝制作測試,完成了基于6×6P+/Nwell/Psub雙結深光電二極管陣列芯片的X射線傳感器的設計;基于CSMC0.5um工藝研制了適合于構成CMOS X射線傳感器的8×8 CMOS光電傳感陣列,仿真與測試結果表明所設計的電路靈敏度極高,能探測到極微弱的光照。主要研究內容如下:
1、根據(jù)CsI(T1)的熒光光譜設計的P+/Nwell
3、/Psub,P+/Nwell結深為0.2um,主要吸收400nm-550nm范圍波長的入射光,另外Nwell/Psub結深為0.8um,主要吸收550nm-800nm范圍波長的入射光。采用ISE-TCAD模擬調試了P+/Nwell/Psub雙結深光電二極管的整個工藝制作過程?;趯嶒炇业奈⒓{加工平臺采用高溫擴散工藝及光刻工藝研制了6×6陣列的P+/Nwell/Psub雙結深光電二極管芯片。芯片測試結果表明在4V的反向偏壓內該光電管的漏電
4、流小于1.5nA,在白光LED燈下靈敏度約為1nA/lux(CSMC0.5um工藝下相同結構光電管漏電流約為11pA,靈敏度約為19p/lux)。提出了P+/Nwell/Psub的光電響應模型,實測結果表明光電管對550nm左右波長的入射光響應最大,與CsI(T1)熒光光譜相匹配。
2、為測試基于6×6光電管的X射線傳感器的特性,研制了36通道微弱電流采集系統(tǒng),數(shù)字化結果輸出,系統(tǒng)采集精度為1nA。
3、基于
5、所研制的P+/Nwell/Psub雙結深光電二極管陣列芯片制作了貼片耦合式X射線傳感器,傳感器的背景電流為6hA。X射線照射下的靈敏度約為1.03×10-9A·m2/W。
4、基于所研制的P+/Nwell/Psub雙結深光電二極管陣列芯片制作了集成片上像素化閃爍層的X射線傳感器。SU-8膠構成的光隔離墻高為85um,墻厚20um,槽面積為100×100um2。
5、基于CSMC0.5um CMOS工藝下研究了
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