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![SiO2-g-C3N4和ZrO2-g-C3N4催化劑光催化降解染料的研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/17/bbf5fe92-215f-431c-af10-0618b732c13d/bbf5fe92-215f-431c-af10-0618b732c13d1.gif)
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文檔簡介
1、隨著各產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展和人口的不斷增加,環(huán)境污染和能源短缺的問題漸漸凸顯并日益嚴重和尖銳。自1972年二氧化鈦的光催化性能被發(fā)現(xiàn)以來,光催化技術(shù)作為一項成本低、易操作、綠色環(huán)保、便于推廣的新興技術(shù),發(fā)展至今已在制備清潔能源和治理環(huán)境污染方面取得了重大進展。以二氧化鈦為代表的第一代光催化劑無毒無害,性質(zhì)穩(wěn)定,在涉及眾多領(lǐng)域的光催化研究中備受廣大研究者關(guān)注。然而其禁帶較寬,吸收光的波長范圍集中在紫外波段,難以利用可見光、量子效率偏低,這些缺陷
2、嚴重限制了二氧化鈦在光催化領(lǐng)域的應(yīng)用和推廣。這迫使科學(xué)家們開始致力于開發(fā)可見光響應(yīng)的光催化劑,比如TaON,BiVO4,g-C3N4等。在本文中,我們主要是制備了兩種g-C3N4基復(fù)合光催化劑,并將其用于光催化降解羅丹明B溶液。
首先,我們通過固相研磨-焙燒法制備了可見光響應(yīng)的SiO2/g-C3N4復(fù)合型光催化劑。為了揭示光催化反應(yīng)的內(nèi)在機理,對催化劑進行了一系列表征。通過對表征結(jié)果的分析,我們得到以下結(jié)論:SiO2/g-C3
3、N4復(fù)合光催化劑活性優(yōu)于純相g-C3N4,一個重要原因是摻雜的SiO2顯著增大了催化劑的比表面積。另外摻雜SiO2后,g-C3N4的片層明顯變薄,這意味著更多的g-C3N4顆粒能夠參與RhB的降解。但光催化活性測試的結(jié)果顯示,本身沒有催化活性的SiO2比重增大也會帶來負面效果,即起作用的活性成分(g-C3N4)減少。因此,需要在比表面積和g-C3N4含量之間達到恰當(dāng)?shù)钠胶猓?4.3wt%SiO2/g-C3N4很可能就處于非常接近最佳平衡
4、點的位置,因而表現(xiàn)出最強的催化活性。
其次,通過研磨-焙燒法制備了可見光響應(yīng)的ZrO2/g-C3N4復(fù)合型光催化劑。該催化劑的光催化活性優(yōu)于純相g-C3N4,并具有良好的穩(wěn)定性,可多次重復(fù)使用。各項表征顯示:ZrO2的引入增大了g-C3N4的比表面積,并改善了其光吸收性能,從而使光催化活性得以提高。但更重要的原因是,g-C3N4光的導(dǎo)帶底電位為比ZrO2的更負。g-C3N4表面的光生電子很容易遷移到ZrO2表面,而空穴則傾向于
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