TC4表面陰極等離子電解沉積氧化鋁基復合涂層及性能.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文以TC4為研究對象,用液相等離子電解沉積的方法在基體表面沉積氧化鋁陶瓷相的基礎上,在脈沖電源條件下利制備了Al2O3/MoS2和Al2O3/HA復合涂層,以期改善TC4的摩擦學、生物相容性等性能。系統(tǒng)研究了表面復合涂層的制備工藝,用掃描電鏡(SEM)對試樣的表面和截面形貌進行了觀察,用能譜儀(EDS)和X射線衍射儀對試樣的元素組成和相組成進行了分析。通過往復摩擦初步研究了Al2O3/MoS2涂層試樣表面的摩擦性能,運用電化學工作站分

2、析其電化學腐蝕行為。在探究Al2O3/HA電化學腐蝕行為的基礎上,運用體外浸泡試驗評價涂層的生物活性。
  結(jié)果表明:陰極等離子電解沉積涂層的基本形貌是粗糙多孔,氧化鋁基體基本是由α-Al2O3和γ-Al2O3組成。涂層表層孔洞直徑隨著硝酸鋁乙醇溶液的摩爾濃度、脈沖占空比、脈沖電壓、沉積時間的增大而增大,涂層表面會愈粗糙,其中脈沖電壓的影響最大。此外脈沖電壓值將顯著影響涂層中α-Al2O3所占比例,α-Al2O3比例隨著電壓的增大

3、而增加。涂層的厚度將隨著硝酸鋁乙醇溶液的摩爾濃度、沉積時間的增大而增大,其中硝酸鋁乙醇溶液的摩爾濃度對涂層厚度影響較大。
  MoS2顆粒添加量為20g/L的電解液中,樣品經(jīng)300V脈沖電壓沉積1h后,獲得的Al2O3/MoS2涂層厚度約為100μm。涂層由硬質(zhì)相α-Al2O3、韌性相γ-Al2O3以及MoS2構(gòu)成,具有一定的強度及韌性,且與基體結(jié)合緊密。該涂層的摩擦系數(shù)降低了1/3,減緩了基體磨損速率;腐蝕電位顯著提高,有效減緩

4、了基體的腐蝕速率。
  Al2O3/HA復合涂層一步制備中,通過酸鋁乙醇溶液添加HA顆粒形式及Ca(NO3)2-Na3PO4混合溶液方式等離子沉積,均獲得微觀表面多孔,由α-Al2O3和γ-Al2O3和類似Ca10(PO4)6(OH)2組成的復合涂層。顆粒添加所獲復合涂層孔洞直徑約20μm-40μm,沉積電壓的升高將造成孔洞直徑增大,經(jīng)EDS檢測涂層中鈣磷元素含量降低,表明不穩(wěn)定放電環(huán)境不利于顆粒沉積。極化曲線顯示涂層的腐蝕電位較

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