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![基于離散元法的炭素回轉(zhuǎn)窯顆粒流數(shù)值模擬.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/17/a7fc4527-30e5-46f2-b1f7-bbc4cd5d35f9/a7fc4527-30e5-46f2-b1f7-bbc4cd5d35f91.gif)
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1、隨著近年來鋁行業(yè)的發(fā)展力度越來越大,用于生產(chǎn)預(yù)焙陽(yáng)極的煅后焦的質(zhì)量吸引了越來越多人的眼球。而我國(guó)的煅后焦的質(zhì)量并不是特別理想,與國(guó)外的先進(jìn)水平存在一定的差距,主要體現(xiàn)為炭燒損較大,這可以歸結(jié)為對(duì)回轉(zhuǎn)窯的操作參數(shù)調(diào)節(jié)的不合理。在石油焦煅燒質(zhì)量的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)中,物料活性層厚度及物料拋落時(shí)間所占百分比是兩個(gè)很重要的評(píng)價(jià)指標(biāo)。設(shè)定合理的工藝參數(shù),使得回轉(zhuǎn)窯內(nèi)橫截面的活性層厚度和滾落時(shí)間百分比更為合理,才能達(dá)到提高煅后焦質(zhì)量,達(dá)到國(guó)外先進(jìn)水平的目的。
2、
本文采用C語言編寫離散元代碼,應(yīng)用離散元法來模擬回轉(zhuǎn)窯中石油焦的運(yùn)動(dòng)情況??紤]了不同窯內(nèi)徑和窯轉(zhuǎn)速對(duì)活性層厚度分布以及最大厚度處顆粒速度分布的影響,并且將離散元(DEM)模擬結(jié)果與李勇等人實(shí)驗(yàn)獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行了對(duì)比,對(duì)比結(jié)果顯示DEM模擬結(jié)果能與實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)較好的吻合,也對(duì)模擬中的數(shù)據(jù)趨勢(shì)進(jìn)行了合理的解釋,驗(yàn)證了離散元模擬回轉(zhuǎn)窯中石油焦顆粒的有效性。在對(duì)結(jié)果的分析中發(fā)現(xiàn),回轉(zhuǎn)窯中的物料橫截面的活性層厚度近似呈現(xiàn)拋物線型,在物料表面
3、的垂直平分顯出厚度達(dá)到最大,而在兩端則為零,這與前人的研究成果極為符合。另外,窯轉(zhuǎn)速及窯內(nèi)徑的變大均能使活性層厚度變大,相對(duì)而言,窯內(nèi)徑影響更為明顯。在活性層最大厚度處,活性層和柱塞流區(qū)內(nèi)的速度分布均呈現(xiàn)近似的線性分布,而在兩者交界,即分界線處,無明顯的線性關(guān)系,經(jīng)分析可能是由活性層和柱塞流區(qū)不同運(yùn)動(dòng)方向的剪切作用造成的。
在探究顆粒物料滾落時(shí)間百分比的影響因素中,發(fā)現(xiàn)傾斜角對(duì)此因素影響甚微,而窯轉(zhuǎn)速和窯內(nèi)徑的的影響效果則較為
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