AlN納米結(jié)構(gòu)的制備與表征.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、由于各種奇特的理化性質(zhì),納米材料在電子、醫(yī)學(xué)、制造業(yè)、航天、航空、國防等各類工程中得到廣泛應(yīng)用,納米技術(shù)已成為21世紀工業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)之一,AlN在力學(xué)、熱學(xué)、光學(xué)、電學(xué)等方面都有著優(yōu)異的性能,工程應(yīng)用潛力巨大,前景廣闊。在此背景下,本文制備了AlN納米陣列和AlN納米海膽結(jié)構(gòu),測試了AlN納米陣列以及單根納米棒的力學(xué)性能,研究了AlN納米陣列和AlN納米海膽結(jié)構(gòu)的光學(xué)性質(zhì)。
  本文基于化學(xué)氣相沉積法,以無水AlCl3與NH3

2、做反應(yīng)源,無催化劑條件下成功制備了獨立自支撐的AlN納米陣列,并在Si片上沉積了AlN納米海膽結(jié)構(gòu)。掃描電子顯微鏡(SEM)顯示,獨立自支撐AlN納米陣列由具有六角形截面、截面尺寸約60nm的納米柱或者錐尖約幾個nm的納米錐組成,以Si片為基底的AlN納米海膽結(jié)構(gòu)由中心向外輻射的納米柱或者納米錐組成;X射線衍射分析(XRD)結(jié)果顯示AlN納米陣列和AlN納米海膽結(jié)構(gòu)均為純相六方纖鋅礦結(jié)構(gòu);AlN納米海膽結(jié)構(gòu)的高分辨透射分析(HRTEM)

3、表明,AlN納米海膽結(jié)構(gòu)的輻射狀納米棒沿[0001]方向生長。
  基于納米壓痕技術(shù),研究了獨立自支撐AlN納米陣列的力學(xué)性能,測得了其載荷-位移曲線??紤]到AlN納米陣列以及納米壓痕儀壓頭的幾何參數(shù),設(shè)計了AlN納米陣列中單根納米棒的力學(xué)性能測試方法,測得具有六角形截面、截面尺寸約60nm的單根AlN納米柱的楊氏模量為275.23GPa,硬度為5.83GPa;光致發(fā)光譜顯示,獨立自支撐AlN納米陣列在紫外、紫光、綠光范圍分別有發(fā)

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