1、為改善鎂合金耐蝕性及耐磨性，采用了直流磁控濺射技術(shù)、高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在鎂合金表面制備了單層Ta膜，并采用高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在鎂合金表面分別制備了Ta/Ti-Si4層膜、Ta/Ti-Si12層膜以和Ta(N)/Ti-Si12層膜。
　　采用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡、能量色散X光譜儀、原子力顯微鏡和X射線衍射儀分析薄膜微觀形貌及組織結(jié)構(gòu)，通過(guò)劃痕實(shí)驗(yàn)、納米壓痕實(shí)驗(yàn)、摩擦磨損實(shí)驗(yàn)及電化學(xué)腐蝕實(shí)驗(yàn)分別評(píng)價(jià)薄膜的膜/基結(jié)合力、納米硬度

2、、耐磨性及耐蝕性，研究工藝參數(shù)對(duì)薄膜耐蝕性及耐磨性的影響規(guī)律。
　　研究結(jié)果表明：Ta膜、Ta/Ti-Si4層膜及Ta/Ti-Si12層膜的相結(jié)構(gòu)主要由α-Ta和β-Ta組成，Ta(N)/Ti-Si12層膜的相結(jié)構(gòu)主要由TaN0.1、TaN0.8、Ta4N和β-Ta組成。
　　通過(guò)高功率脈沖磁控濺射技術(shù)制備的Ta膜的膜/基結(jié)合力高于通過(guò)直流磁控濺射技術(shù)制備的Ta膜的結(jié)合力。
　　利用高功率脈沖磁控濺射技術(shù)制備的Ta膜的

3、硬度及彈性模量高于通過(guò)直流磁控濺射技術(shù)制備的Ta膜的硬度及彈性模量。
　　單層Ta膜一定程度地提高了鎂合金的耐蝕性及耐磨性；而Ta(N)/Ti-Si多層膜顯著地提高了鎂合金的耐蝕性和耐磨性。其中，脈沖偏壓-300V下制備的Ta(N)/Ti-Si12層膜的耐蝕性最好，脈沖偏壓-500V下制備的Ta/Ti-Si12層膜次之，脈沖偏壓-100V下制備的Ta/Ti-Si4層膜最差。相同的沉積時(shí)間，沉積膜層數(shù)多耐蝕性相對(duì)較好；脈沖偏壓-30