純鋁微弧氧化膜層性能的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、微弧氧化技術是一種新型的表面處理技術,是在閥金屬表面通過微等離子體放電,進行復雜的等離子化學、電化學和熱化學反應,原位生成一層均勻絕緣的氧化陶瓷層的工藝,可極大地改善鋁及其合金的性能。
  本文研究了電解液組分對鋁的微弧氧化膜層表面形貌、厚度、結合強度以及耐大氣腐蝕性能的影響?;趯ω撓螂妳翟谀由L中作用機理的探討,研究了負向電流密度以及負向占空比對成膜的影響規(guī)律。研究結果表明,在已得到的工藝參數基礎上,電解液中加入4.5mL

2、/LC3H8O3,溶液電導率為16.5mS/cm,負向電流密度為9A/dm2,負向占空比為30%的條件下,可得到膜層孔隙率低,表面質量好,與基體結合良好以及耐大氣腐蝕的綜合性能較好的膜層。
  通過對溶質離子在微弧氧化過程中的作用機理研究表明:在微弧氧化反應初期,溶質離子促使鋁基體表面形成易失穩(wěn)的阻擋膜層;膜層生長時,為膜層生長的擊穿放電提供條件;在生長后期,溶質離子主要是為陶瓷膜生長提供氧等膜層所需元素,最終生成陶瓷結構的膜層。

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