1、隨著科學(xué)技術(shù)日新月異的發(fā)展，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的不斷進步，集成芯片的集成度越來越高，對光刻機光源提出了更高的要求。激光等離子體（LPP）光源作為一種新型的軟X 射線光源，其研究始于二十世紀(jì)七十年代。為了滿足極紫外投影光刻以及半導(dǎo)體行業(yè)的要求，激光等離子體極紫外光源保持不斷的向前發(fā)展。本論文研究了用CO2 激光轟擊固體錫靶，產(chǎn)生激光等離子體極紫外光源。
　　 本文綜述了激光等離子體極紫外光源在國外的研究狀況和最新進展。就整體而論，大多采用

2、Nd:YAG或CO2 激光器轟擊固體或液體的錫靶，改變靶材或激光的參數(shù)，來獲得高效、清潔的極紫外光源。從他們的研究成果中得到啟發(fā)，結(jié)合現(xiàn)有的實驗條件，搭建極紫外光源實驗平臺。
　　 軟X 射線平場光柵光譜儀，簡稱平場譜儀，是用來對軟X 射線波段的光信號進行光譜分析的。在掌握子午面與弧矢面成像特點，理解凹面反射式光柵的工作原理后，結(jié)合極紫外光源實驗平臺的實際情況，設(shè)計出以診斷中心波長為13.5nm的譜儀結(jié)構(gòu)。安裝、調(diào)試后，CCD