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![磷鋁吸雜及HIT晶硅太陽電池高轉(zhuǎn)換效率機理研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/16/15/5aa866ce-5337-4972-bd5c-c490744e76a7/5aa866ce-5337-4972-bd5c-c490744e76a71.gif)
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文檔簡介
1、太陽能的應(yīng)用是解決能源與環(huán)境問題的有效途徑。HITTM太陽電池雖然誕生的時間不長,但是憑借其廉價高效的巨大優(yōu)勢迅速搶占國際光伏市場,成為目前太陽電池研發(fā)及應(yīng)用領(lǐng)域中最耀眼的一顆新星;多晶硅太陽電池也是未來最有發(fā)展?jié)摿Φ奶栯姵刂弧?本研究工作目標(biāo)是實現(xiàn)高效非晶硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽電池的制備和提高多晶硅太陽電池的效率以及降低生產(chǎn)成本。論文的主要研究內(nèi)容如下: 首先,采用等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)在p型單晶硅襯
2、底上制備本征非晶硅和n型非晶硅薄膜,利用射頻磁控濺射在n型非晶硅窗口層上制備透明導(dǎo)電膜構(gòu)造非晶硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)(HIT)太陽電池。采用光譜響應(yīng)和Ⅰ-Ⅴ測試手段對所制備的非晶硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽電池進行測試和分析,發(fā)現(xiàn)不同的TCO(ITO和ZnO:Al)對HIT太陽電池的光電特性有很明顯的影響。利用X射線衍射(XRD)、透射譜、反射譜、四探針等手段對透明導(dǎo)電薄膜進行深入的研究。真空退火能極大的改善ITO薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能,經(jīng)過不同溫度的
3、真空退火后,得到電阻率為2.18×10-4Ωcm、晶粒尺寸增大且趨于有序,透過率為90%以上的優(yōu)質(zhì)ITO透明導(dǎo)電膜,很好的改善了非晶硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽電池的短路電流和效率。 其次,研究磷鋁吸雜對于晶體硅的影響并在此基礎(chǔ)上制備晶體硅太陽電池。測量經(jīng)磷擴散吸雜,鋁吸雜,磷鋁聯(lián)合吸雜(雙面蒸鋁)后硅片少子壽命的變化和間隙氧含量的變化,發(fā)現(xiàn)濃磷擴散吸雜,鋁吸雜,磷鋁聯(lián)合吸雜(雙面蒸鋁)對于硅片的少數(shù)載流子壽命都有提高,其中磷鋁聯(lián)合吸雜
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