1、負折射率材料(Negative refractive materials，NRM)是21世紀國際電磁學研究的一個新的熱點，在微波、光學、電磁隱身以及通信等領域具有廣闊的應用前景。傳統(tǒng)的負折射率材料即為左手材料需要等效介電常數(shù)ε和等效磁導率μ同時為負值。然而，利用手征結構設計也可以實現(xiàn)左手材料的負折射特性，我們稱之為手征結構或手征性負折射率材料。手征性是指物體經(jīng)過平移、旋轉等任意空間操作均不能與其鏡像完全重合的特性，手征性的強弱主要由微結

2、構手征參數(shù)大小決定。手征性負折射率材料不需要同時存在負的等效介電常數(shù)和負的等效磁導率。手征結構負折射率材料不僅符合左手材料具有負折射率的特性，它還可以產(chǎn)生旋光性等其它電磁特性。最近幾年，大量左手材料的工作頻率都是在微波段。最近，研究者正在把工作頻率向太赫茲波段和光波段推進。構造低損耗、多/寬頻段、易加工的手征結構負折射率材料，提高負折射率材料的性能，一直是這個領域的一個研究重點。為此，本文致力于尋求性能良好的手征結構負折射率材料，提出了

3、橫跨微波、太赫茲波和光波段的多通帶手征結構負折射率材料的設計方案。本文主要從以下幾個方面對手征結構負折射率材料進行研究:
　　(1)介紹了傳統(tǒng)負折射率材料的研究進展及現(xiàn)狀，負折射率材料的主要研究內(nèi)容及發(fā)展趨勢;介紹了手征性負折射率材料的基本概念、研究方法以及手征性負折射率材料的最新研究進展。
　　(2)描述了手征結構負折射率材料的電磁理論基礎、手征負折射理論及其反演方法，研究了手征結構負折射率材料需要表征的電磁參數(shù)，包含LC

4、P/RCP波透射譜、旋光角、橢偏度、圓二色性、LCP/RCP波折射率、傳統(tǒng)折射率、手征參數(shù)、等效介電常數(shù)、等效磁導率，探討了手征結構負折射率材料微結構的設計方法與設計原則。
　　(3)基于巴比涅原理設計了微波段互補“十字型”手征性負折射率材料，對其進行數(shù)值模擬驗證，反演計算了結構的圓二色性、旋光角、手征參數(shù)、等效磁導率、等效介電常數(shù)和折射率等。結果表明:該結構在微波段具有極強的旋光性和負折射率特性。進一步通過模擬微結構表面電流和磁

5、場的分布，研究了其負折射率特性和旋光性產(chǎn)生的原理;然后基于該原理設計微波段互補“十字型”手征結構，在此基礎上，重新設計了具有多頻帶負折射率特性和較大光學活性的互補“十字型”手征結構，并對其數(shù)值模擬驗證。
　　(4)設計了太赫茲波段互補“十字型”手征性負折射率材料，通過數(shù)值模擬仿真研究了其太赫茲波電磁特性，并對旋轉角、介質層厚度、開縫寬度以及開縫長度這四項關鍵參數(shù)進行了優(yōu)化，使該結構在太赫茲波段具有最大旋光性和負折射率特性。