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![磁場(chǎng)對(duì)于集成電路工藝微電子測(cè)試圖分析的影響及其解決方法的研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/18/4c47d144-b72a-4da9-bb44-ae1e91fdc914/4c47d144-b72a-4da9-bb44-ae1e91fdc9141.gif)
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1、可靠性物理是集成電路中必需而且重要的一門(mén)學(xué)科,根據(jù)器件的關(guān)鍵工藝參數(shù),對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行可靠試驗(yàn),并作出可靠性評(píng)估,以調(diào)整對(duì)新產(chǎn)品可靠性設(shè)計(jì),生產(chǎn)中質(zhì)量控制以及器件的正確使用,以最終提高器件的可靠性?,F(xiàn)在集成電路工藝發(fā)展迅速,從亞微米到深亞微米0.35um,0.18um,0.11um,90nm,65nm,45nm…。在制造工藝的迅猛發(fā)展的同時(shí),工藝的可靠性研究也越來(lái)越重要,越來(lái)越嚴(yán)格?,F(xiàn)在在生產(chǎn)過(guò)程中,充分利用微電子測(cè)試圖技術(shù)研究;對(duì)專門(mén)設(shè)計(jì)的
2、微電子測(cè)試結(jié)構(gòu)進(jìn)行簡(jiǎn)單的電學(xué)測(cè)量或顯微鏡觀察,提取有關(guān)生產(chǎn)工藝參數(shù)和單元器件或電路的電參數(shù),提高芯片良率。本研究分析發(fā)現(xiàn)外來(lái)磁場(chǎng)對(duì)SEM圖像會(huì)產(chǎn)生扭曲變化,進(jìn)而帶來(lái)測(cè)試值存在較大誤差的影響。本論文在工藝和硬件上提出了解決方案。工藝上,利用multi point的量測(cè)方法代替了原始的single point量測(cè)方法,硬件上,設(shè)計(jì)建立了一個(gè)主動(dòng)式反磁場(chǎng)系統(tǒng)平臺(tái)的方案,利用感應(yīng)器和控制器發(fā)送到電流到框架產(chǎn)生不同向量的磁場(chǎng),將周圍的磁場(chǎng)完全逆向
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