硅基薄膜材料組份激光微區(qū)光譜分析法與應(yīng)用研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè)，還剩43頁(yè)未讀， 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、硅基薄膜的組份對(duì)其性能具有重要影響，對(duì)其組份的檢測(cè)一直是國(guó)內(nèi)外科研工作者比較關(guān)心的問(wèn)題。本文采用YJG-Ⅱ激光微區(qū)分析儀、組合式多功能光柵光譜儀、CCD數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)構(gòu)成的激光微等離子體光譜分析系統(tǒng)，以亞微米硅基薄膜為樣品，研究了激光微區(qū)光譜分析法及其在硅基薄膜材料組份定量分析中的應(yīng)用。
　　 探究了提高薄膜材料激光微等離子體光譜強(qiáng)度的方法，通過(guò)對(duì)硅基薄膜表面覆蓋碳層，克服了材料表面高亮度對(duì)激光能量的反射，增加激光能量與薄膜的

2、熱耦合效率，有效降低了光譜分析檢出限，拓寬分析范圍。結(jié)果表明：當(dāng)涂層厚度為15μm左右時(shí)，激光等離子體的輻射強(qiáng)度明顯提高。同時(shí)驗(yàn)證了最佳的實(shí)驗(yàn)條件：輔助電極高度1.5mm，輔助電極間距1mm。
　　 采用鑭鍶鈷氧薄膜和鋯鈦酸鉛薄膜為樣品，分別以CoI399.53nm、SrI407.71nm、LaII392.15nm為分析線和TiⅡ336.12nm、ZrⅡ343.82nm、PbI368.35nm為分析線，對(duì)所提出的測(cè)量薄膜元素比率

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽，若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間，僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理，對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請(qǐng)與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論