1、由于化學鍍可以在非金屬材料及復雜基件上獲得均勻鍍層，該方法被廣泛應用于電子、計算機、機械、化學化工等工業(yè)領域。本論文的工作主要分為兩個部分，一部分為在載玻片表面涂覆一層PdCl2摻雜的ZnO薄膜，使得化學鍍可以直接進行，所獲得鍍層附著力強、表面平整光滑；另一部分為在次磷酸鈉化學鍍銅體系中，研究2，2’-聯(lián)吡啶/亞鐵氰化鉀復合添加劑對化學鍍銅的影響；具體研究工作如下：
　　 (1)本文先采用溶膠-凝膠法在普通載玻片上沉積ZnO溶膠

2、薄膜，并著重研究了ZnO溶膠薄膜的TG和DSC曲線、ZnO溶膠薄膜中間產(chǎn)物和最終產(chǎn)物的紅外圖譜，以考察摻入的PdCl2是否在溶膠-凝膠中發(fā)生反應或產(chǎn)生影響。同時采用SEM和XRD對ZnO薄膜的形貌和結構進行分析。研究結果表明：PdCl2并未在溶膠-凝膠中發(fā)生反應，但PdCl2的加入使ZnO薄膜的生長遠離平衡條件，造成失穩(wěn)分解，導致?lián)诫s后的ZnO薄膜呈現(xiàn)無序的連續(xù)兩相交織結構。
　　 (2)研究在PdCl2摻雜ZnO薄膜的載玻片上

3、直接進行化學鍍銅的方法。通過表面形貌分析可知，在摻雜ZnO薄膜上，鍍層按Volmer-Weber型生長方式生長。鍍層表面粗糙度隨沉積時間的增加先增后降，所得的鍍層表面致密、平整、光滑。由X射線衍射分析可知，在PdCl2摻雜ZnO薄膜上沉積的鍍層晶粒(111)晶面衍射峰尖銳，與基體結合牢固，其電阻率為0.0951μΩ·m。
　　 (3)研究了在以次磷酸鈉為還原劑的化學鍍銅體系中，2，2’-聯(lián)吡啶/亞鐵氰化鉀復合添加劑對化學鍍銅的影