1、高反鏡的背散射是形成激光陀螺腔內(nèi)背散射的主要原因,散射光降低了器件的精度和靈敏度,通常高反射鏡具有多層介質(zhì)反射膜,而每層介質(zhì)膜都會成為散射源.散射光的存在一方面給光學(xué)系統(tǒng)帶來了危害,另一方面它的分布特征為評介光學(xué)表面和光學(xué)系統(tǒng)提供了重要的信息.通過測量高反鏡的背散射,可以建立光散射分布特征與表面粗糙度的關(guān)系,從而評介薄膜的質(zhì)量,確定高反鏡的性能,同時可以指導(dǎo)薄膜的設(shè)計和制備.根據(jù)理論和大量實驗發(fā)現(xiàn),在高反鏡背散射光方向附近,散射光強變化

2、緩慢,因此可以采用這一區(qū)域的小孔立體角內(nèi)散射光強度表征背散射光強度.根據(jù)這一發(fā)現(xiàn),結(jié)合全積分散射(TIS)理論在表面粗糙度測量方面的理論,提出了新的測量方法測量薄膜的背散射:立體角積分散射法.在這種思想的指導(dǎo)下,建立了一套二維掃描光散射分布的自動測試系統(tǒng),測量高反射鏡的背散射,該系統(tǒng)包括光學(xué)機械部分,光電轉(zhuǎn)換和檢測部分,以及測量控制軟件等三部分.系統(tǒng)測量的是微弱的光學(xué)信號,信號由高靈敏度低噪聲的光電倍增管轉(zhuǎn)換為電流信號,然后利用高性能的