版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、酞菁類金屬配合物作為一種有機功能材料,在光電導器件、電致發(fā)光器件、非線性光學器件、氣體傳感器、太陽能電池等眾多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用.酞菁金屬配合物的突出特點之一是其能帶結(jié)構(gòu)易于剪裁,可通過不同方法加以改變,從而達到改善器件光電導性能,調(diào)整光譜響應(yīng)范圍等目的.因此酞菁類金屬配合物在光電領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用前景.在該文中,我們嘗試采用兩種方法對酞菁類薄膜的光電性能進行改性.一是通過磁場熱處理提高酞菁薄膜的光電導性能;二是通過將p型酞菁與n型材料異
2、質(zhì)復合,改變光譜響應(yīng)范圍.我們在真空下熱蒸發(fā)沉積得到了酞菁氧釩(VOPc)薄膜,并在磁場中進行了熱處理,用紫外-可見光光譜儀(UV-Vis Spectrometer),X射線衍射儀(XRD)原子力顯微鏡(AFM)等方法對酞菁薄膜的結(jié)構(gòu)性能進行表征測試.分析表明酞菁氧釩分子UV-VIS吸收譜Q帶峰值發(fā)生較大的紅移;XRD測試中衍射峰強度明顯增強,峰位變化,但峰寬變化不大;原子力顯微鏡(AFM)分析發(fā)現(xiàn)晶粒大小無明顯變化.我們進一步制備了以
3、酞菁鉛為載流子發(fā)生層的單層結(jié)構(gòu)光電導器件,發(fā)現(xiàn)磁場熱處理后,器件的光電導特性顯著提高,光響應(yīng)時間縮短,殘余電位降低.我們認為磁場使酞菁氧釩分子在熱處理過程中發(fā)生了定向的排列,分子有序性排列使酞菁光電導性能顯著提高.我們分別制備了氧化鋅(ZnO)/酞菁鉛(PbPc)和氧化錫(SnO)/酞菁鉛(PbPc)多層異質(zhì)復合薄膜,對兩種結(jié)構(gòu)的復合薄膜進行了紫外-可見吸收光譜測試(Uv-vis)和X射線衍射分析(XRD).實驗結(jié)果顯示酞菁的吸收峰發(fā)生
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 熱處理對石墨烯薄膜結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響.pdf
- 熱處理對iPP薄膜結(jié)構(gòu)與性能的影響.pdf
- 后處理對酞菁薄膜的影響.pdf
- 強磁場下氧化法生長ZnO薄膜結(jié)構(gòu)演化及其對性能的影響.pdf
- 熱處理對摻CH-,4-的SiCOH薄膜結(jié)構(gòu)及性能的影響.pdf
- 層狀結(jié)構(gòu)無機-有機復合薄膜材料的組裝及性能研究.pdf
- 熱處理及拉伸工藝對聚丙烯微孔膜結(jié)構(gòu)和性能的影響.pdf
- 強磁場下鎂合金熱處理組織研究及Mg-Ti薄膜制備.pdf
- 銅酞菁的溶解及納米銅酞菁薄膜的制備.pdf
- 電、磁場熱處理對高碳鋼顯微組織及性能的影響.pdf
- 熱處理工藝對鐵酸鉍薄膜結(jié)構(gòu)和表面形貌的影響
- 酞菁氧釩有機薄膜晶體管的性能研究.pdf
- 氣體放電伏安特性對TiN薄膜結(jié)構(gòu)及性能的影響.pdf
- Mn對BifEO3基薄膜結(jié)構(gòu)及性能的影響研究.pdf
- 摻雜及異質(zhì)結(jié)構(gòu)對鐵酸鉍薄膜結(jié)構(gòu)與性能影響研究.pdf
- 磁場輔助熱處理對PVDF基磁電復合材料性能的影響.pdf
- 高溫熱處理對泡沫混凝土結(jié)構(gòu)及性能影響.pdf
- 直流濺射工藝參數(shù)對Mo薄膜結(jié)構(gòu)及電性能的影響.pdf
- 有機-無機納米復合薄膜的制備及性質(zhì)研究.pdf
- 磁場下銅鋁冷軋復合薄帶熱處理工藝及界面組織形態(tài)研究.pdf
評論
0/150
提交評論