冶金法提純多晶硅過程中氮化硅涂層的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、無論是在太陽能電池行業(yè)還是半導(dǎo)體工業(yè)中,硅都是該領(lǐng)域中基礎(chǔ)材料。由于鑄造多晶硅成本低廉,目前已經(jīng)取代單晶硅成為光伏市場的主要原料。多晶硅太陽能電池已經(jīng)占據(jù)光伏市場的50%以上。冶金法是制備太陽能級多晶硅的一種新方法,具有成本低,污染小的優(yōu)點,其制備過程中需要使用坩堝。工業(yè)中通常使用的坩堝是石英或石墨坩堝,熔融硅與坩堝接觸時不可避免的產(chǎn)生反應(yīng)粘連,同時坩堝中的雜質(zhì)也會進入硅熔體中。高濃度的雜質(zhì),如C、O、Fe等將使少子壽命顯著降低,影響電

2、池性能。通常在坩堝上涂敷涂層使熔體與坩堝壁隔離,來減少反應(yīng)粘連使鑄錠順利脫模,并阻止坩堝中的雜質(zhì)在鑄造過程中進入硅中。 Si3N4由于其自擴散系數(shù)低,耐高溫,化學(xué)穩(wěn)定性好,通常被用來作為多晶硅鑄造中的涂層材料。氮化硅涂層的制備方法很多,但通常工藝復(fù)雜,成本高。關(guān)于氮化硅涂層對多晶硅影響的研究也比較少。因此,有必要研究工藝簡單成本較低的氮化硅涂層制備技術(shù)和氮化硅涂層與多晶硅性能之間的關(guān)系。本文利用掃描電鏡,電子探針,少子壽命測試

3、儀等設(shè)備,重點研究了氮化硅涂層的制備工藝與脫模效果的關(guān)系,熔煉過程中氮化硅涂層反應(yīng)機制,氮化硅涂層對多晶硅中雜質(zhì)、晶體結(jié)構(gòu)和少子壽命的影響。 研究結(jié)果表明:1、水,無水乙醇,PVA水溶液和PVP乙醇溶液與氮化硅粉組合可制備涂層,其中脫模效果最好的組成為:wt8%PVP乙醇溶液與60wt%Si3N4。不經(jīng)過預(yù)處理去除PVA、PVP添加劑的氮化硅涂層更利于脫模。真空熔煉時使用惰性氣體增大壓強防止氮化硅涂層的分解,有利于脫模。2、溫度

4、升高氮化硅涂層的分解加劇,N擴散進入硅熔體達飽和形成新Si3N4晶核并長大,最終在接觸面處形成由大顆粒Si3N4組成的連續(xù)層。3、氮化硅涂層使鑄錠中雜質(zhì)含量降低。氮化硅涂層能夠阻止坩堝中雜質(zhì)如C、O、P等進入Si熔體,同時Si3N4的分解和新Si3N4晶核的形成促進涂層附近的C、Fe、Ca雜質(zhì)沉淀。SiC沉淀以Si3N4晶核為異質(zhì)核心形成并長大。Fe雜質(zhì)依附在氮化硅顆粒表面不飽和鍵或沉積在新Si3N4晶核缺陷處形成微米級FeSi2顆粒。

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