1、電子散斑干涉測量(ESPI)是一種結(jié)合了激光、計算機、CCD和圖像處理的現(xiàn)代光學(xué)測量技術(shù),由于具有非接觸、高靈敏度、全場測量等優(yōu)點,已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用于粗糙表面測量、應(yīng)力應(yīng)變分析、振動測量、無損檢測等領(lǐng)域。近年來隨著納米材料迅速發(fā)展,微結(jié)構(gòu)的力學(xué)特性、表面的應(yīng)力變化、形變量等重要的材料性能參數(shù)的測量顯得越發(fā)重要,因此結(jié)合顯微光學(xué)系統(tǒng)的電子散斑干涉測量技術(shù)(Micro-ESPI)應(yīng)運而生,成為一種非常重要的測量手段。
　　 本文對該

2、技術(shù)進行了探索性的研究,主要的工作有：⑴用MATLAB語言模擬仿真了干涉測量技術(shù)的四步相移算法,并對步長誤差對測量精度的影響進行了討論；⑵完成了相移裝置的步長測量實驗；⑶搭建了顯微電子散斑干涉測量(Micro-ESPI)系統(tǒng),運用四步相移算法對硅片進行測量,用CCD拍攝硅片變形前后相關(guān)散斑干涉圖。利用MATLAB語言編寫了散斑圖濾波和空間二維相位展開算法,通過對所獲得的微結(jié)構(gòu)變形前后的散斑干涉條紋圖進行處理,得出硅片變形的相位信息,最終