1、本論文主要進行了激光圖形化技術在印刷電子材料中的應用研究。近年來，隨著新型有機半導體材料的不斷涌現(xiàn)，以低成本的印刷方式制作電子器件成為可能，諸如電子紙、柔性顯示屏、柔性發(fā)光二極管等具有柔軟特性的電子產品不斷推出，印刷電子也被業(yè)界稱為下一代半導體制造技術。其中柔性透明導電膜作為印刷電子材料的一個重要課題，得到了廣泛研究，以低成本的印刷工藝生產柔性透明導電膜成為科研人員的一個目標。然而現(xiàn)今的印刷電子工藝，如絲網印刷、噴墨打印和凹版柔性印刷都

2、無法同時實現(xiàn)高效率、低成本和高精度的印刷制作。
　　 本論文將精密光刻微圖形、納米壓印技術和Ag漿刮涂技術相結合，實現(xiàn)了由微細金屬網格柵構成的柔性透明導電膜的制作。首先，對能夠保證圖形高精度拼接和高效率光刻的飛行頻閃平鋪曝光技術和Z軸校正技術進行了分析，對圖形化設備的圖形輸入器件DMD在相干光照明下的相位調制特性進行了理論和實驗研究，發(fā)現(xiàn)DMD的微鏡偏轉角誤差(±1°)對圖形化設備的能量利用率有很大影響。利用激光圖形化設備制作了

3、透明導電膜所需的電路圖形的精密光掩模板，其線寬為2.5μm。研究了厚膠曝光工藝，采用鑄模技術得到柔性PDMS壓印模板，實驗表明用負膠母版二次鑄模得到的PDMS模板的霧度(8％)要低于正膠模板一次鑄模(19％)。最后，采用紫外固化納米壓印技術在以PET為基底的UV膠上壓印出溝槽圖形，用Ag漿刮涂技術將納米Ag填入溝槽中得到微細金屬網格透明導電膜，其表面電阻為3Ω/□。在刮涂Ag漿的實驗中，通過增加溝槽的深度和UV膠表面的親水性，可使得更多