用于納米集成電路可制造性設計的測試結構版圖生成器設計.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、集成電路工藝達到超深亞微米與納米技術節(jié)點,工藝變異降低器件與互連參數的精確性,影響集成電路性能與成品率。采用測試結構版圖自動生成的方法,可以快速高效地生成針對集成電路工藝變異及其對器件與互連參數的影響這一研究過程中所需的大量測試結構版圖文件,具有積極的意義。 論文分析了當前的研究狀況,介紹了集成電路工藝變異的內容及對集成電路器件、互連以及電路性能的影響。論文介紹了互連參數的內容、受集成電路工藝變異的影響及定性方法;闡述了用于互連

2、參數定性的三類測試結構的版圖結構、測試原理與目標參數。測試結構版圖生成器針對這三類測試結構,根據版圖層信息與測試結構規(guī)格信息,由程序實現測試結構版圖自動生成的功能。生成器程序采用模塊化設計方法。主程序實現文檔讀入與測試結構信息識別、分類、存儲功能,控制三個子程序實現單類測試結構版圖文件生成。生成器配合集成電路后端設計開發(fā)環(huán)境,可以對所生成的測試結構版圖文件進行檢查與驗證。 論文展示了測試結構的工作原理流程圖與程序流程圖,以及利用

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