1、研究生畢業(yè)論文摘要用射頻磁控濺射法在玻璃、藍(lán)寶石、硅、二氧化硅等襯底上成功制備出ZnO薄膜并研究了薄膜的發(fā)光特性及發(fā)光特性與制備條件、激發(fā)光波長、激發(fā)強(qiáng)度及熱退火等因素的關(guān)系。通過對(duì)在不同襯底上制備的Zn0薄膜的研究發(fā)現(xiàn):L在四種襯底上制備的ZnO都為六角纖鋅礦的多晶結(jié)構(gòu)，具有c軸垂直于襯底的擇優(yōu)取向。在襯底不加熱的情況下在藍(lán)寶石襯底上生長的ZnO薄膜具有c軸垂直襯底的單一擇優(yōu)取向性。在玻璃、硅、石英襯底上生長的薄膜只有在較高的襯底溫度

2、下才長成c軸垂直于襯底的單一擇優(yōu)取向。高溫退火也可以改善薄膜的結(jié)構(gòu)特性，使擇優(yōu)取向特性變好，晶粒變大。2.所制備的薄膜在可見光區(qū)透過率大于86，利用透射譜可算出薄膜的禁帶寬度約為3.2eV，不同襯底上的薄膜其禁帶寬度稍有不同。3制備條件對(duì)i2有很大影響。襯底上得到的薄膜具有不同的發(fā)光特性。同樣的制備條件下，不同藍(lán)寶石、硅、二氧化硅襯底上生長的薄膜在波長為270nm的光激發(fā)下能得到波長為356nm的紫外輻射，在玻璃襯底上制備的膜不能產(chǎn)生這

3、個(gè)輻射。在二氧化硅襯底上制備出的薄膜其波長為490nm.514nm的發(fā)光最強(qiáng)，在玻璃襯底上制備的薄膜波長446nm處的發(fā)光最好，而制備在玻璃和藍(lán)寶石襯底上的膜能觀察到很強(qiáng)的位于波長410440nm處的發(fā)光帶。濺射氣體中的氧分壓對(duì)薄膜的發(fā)光特性也有很大影響。隨著氧分壓的增加，與氧空位缺陷有關(guān)的各種發(fā)光強(qiáng)度隨之減弱。隨著濺射時(shí)間的增加，薄膜厚度變大，薄膜的發(fā)光強(qiáng)度明顯增加，目前來看2000nm厚的膜似乎有第、頁共60頁研究生畢業(yè)論文Abst

4、ractZnOfilmshavebeenpreparedonComing7059glasssapphiresiliconandquartzsubstratesby〔f.MagnetronSputering.ThephotoluminescencecharacteristicsofthesefilmswereinvestigatedbyusinganEdinburghAnalyticalInstrumentsF902typevisible

5、ultravioletspectrophotometeratroomtemperature.Itwasfoundthattheobservedphotoluminescencedependedonthedepositionparameterssuchassubstratematerialssubstratetemperatureandheatannealingprocessexcitationwavelengthandintensity

6、ofexcitationlight.1.XRDspectrafortheZnOfilmsdepositedonthefourkindsofsubstratesrevealedthatallfilmswerepolycrystallinewiththehexagonalwurtizestructureandhadpreferredorientationwithcaxisperpendiculartothesubstrates.Fortho

7、sesamplesdepositedonsapphiresubstratesonlyonepreferredorientationwasobserved.OntheotherhandforthesamplesgrownonCorning7059glasssiliconandquartzsubstratesbesides(002)peaksmall(100)(101)peakswerealsoobservedintheirspectraa

8、thighsubstratetemperature(100)(101)peaksvanished.Annealingcanimprovedthecrystallinityoftheobtainedfilms.2.ThefilmsdepositedonComing7059glasshavegoodtransmittanceTheaveragetransmittanceinthevisibleregionisabout86%.Theopti