石墨基復合三維多孔MHCF膜電極制備及其電控離子分離性能.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、太原理工大學博士學位論文石墨基復合三維多孔MHCF膜電極制備及其電控離子分離性能姓名:馬旭莉申請學位級別:博士專業(yè):化學工程指導教師:孫彥平20100301太原理工大學博士研究生學位論文IIKNO3溶液中采用電勢循環(huán)可逆地置入與釋放K,比較了不同制備方法得到的NiHCF薄膜的電活性、離子交換容量、再生性能和循環(huán)壽命;在1molL1(KNO3CsNO3)混合溶液中測定了不同濃度下薄膜的伏安特性曲線,分析了薄膜對CsK的選擇性。實驗表明,在

2、具有多微孔結構的石墨基體上制得的NiHCF膜能夠實現(xiàn)電化學控制的堿金屬離子分離,無論是電沉積還是毛細化學沉積方法制得的NiHCF薄膜在CsK混合溶液中均對Cs顯示出良好的選擇性。其中電沉積NiHCF膜主要分布于基體表面,經過25次循環(huán)伏安再生離子交換容量恢復85.65%,但經過1000次循環(huán)掃描離子交換容量衰減約50%;化學沉積NiHCF膜可在毛細力作用下滲透于基體微孔內部,相同再生時間離子交換容量恢復66.16%,而1000次循環(huán)掃描

3、離子交換容量僅衰減約24.5%。因此多微孔結構的石墨基體化學沉積NiHCF膜的循環(huán)壽命明顯高于電沉積膜,能夠滿足電控離子分離技術的實際應用。多排石墨芯(Multirowgraphitece,MRGC)基體具有結構簡單、便于施加外部電壓和易于放大的特點。為了提高MHCF膜電極的離子交換容量,首先通過陰極電沉積法在多微孔結構石墨芯基體上制備了NiHCF薄膜,然后組裝為三維多排石墨芯(MRGC)NiHCF膜電極系統(tǒng)。采用SEM、XPS和EDS

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