1、基于光纖布喇格光柵(Fiber Bragg Grating——FBG)的溫度傳感器由于具有波長編碼測量、抗電磁輻射、輕巧、靈活等優(yōu)點而被廣泛地應用于各個工業(yè)領域。然而，基于FBG的溫度傳感器一般只能適用于較低溫度范圍的測量。這主要是由FBG較差的耐高溫性能所決定的。眾所周知FBG并不是一個永久性的結構，當長時間工作在高溫環(huán)境下時FBG會消失或被“洗掉”。因此為了能夠將FBG用于更高溫度范圍的傳感應用，必須制作出具有更強耐高溫性能的FBG

2、。
　　 本論文所涉及的研究工作的目標在于研制出新型的光敏性光纖并能夠采用紫外曝光相位掩模法在這些光纖中寫入具有強耐高溫性能的FBG。采用優(yōu)化的化學氣相沉積法分別將銻(Sb)、銦(In)、鉍(Bi)摻入鍺硅光纖中并制作出了高光敏光纖。在波長為248nm的紫外準分子激光的照射下，這些光敏光纖的內部形成了強光纖光柵。退火實驗結果證實寫入上述幾種光纖中的FBG在800℃或是900℃下退火24小時后，仍可在反射光譜中觀測到這些光柵的反射

3、率，顯示出了超強的耐高溫性能，有著潛在的工業(yè)傳感應用前景。
　　 在對各種光纖的光敏性和寫入其中的FBG在高溫下的穩(wěn)定性進行測試的基礎上，對光纖的光敏性和FBG的衰退機理進行了進一步的研究，并提出了一種新的理論模型——陽離子跳躍模型，解釋了所得實驗結果。這一模型認為鍺硅光纖中的空位對于獲得高光敏光纖具有重要的作用，而在紫外曝光過程中陽離子跳離原來位置的行為是造成光纖折射率變化的主要原因。
　　 在結合陽離子跳躍模型和所謂