1、摻鋁氧化鋅(Al-doped ZnO,簡(jiǎn)稱(chēng)AZO)薄膜是一種具有高透射率和低電阻率的n型半導(dǎo)體透明導(dǎo)電薄膜,廣泛應(yīng)用于各種光學(xué)儀器中。隨著材料多功能化的發(fā)展,對(duì)于AZO薄膜來(lái)講,在保持其透明、導(dǎo)電性能的基礎(chǔ)上,研究其自清潔性能是很有必要的。
　　本文用溶膠凝膠和磁控濺射兩種方法制備了透明導(dǎo)電AZO膜,并對(duì)其進(jìn)行化學(xué)刻蝕和表面修飾,得到了兼具透明、導(dǎo)電與自潔性能于一體的AZO膜。通過(guò)分析制備工藝,優(yōu)化實(shí)驗(yàn)條件,用XRD、SEM以及A

2、FM等方法對(duì)AZO膜表面的結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行測(cè)試,使用紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)、四探針測(cè)試儀、接觸角測(cè)試儀等測(cè)試光電性能以及自潔性能,并研究了表面形貌與光電性能及自潔性能之間的關(guān)系。
　　采用溶膠凝膠法制備AZO薄膜時(shí),提拉次數(shù)為12層時(shí),性能最優(yōu),此時(shí)平均透過(guò)率達(dá)到87％,面電阻為3.56×103Ω/sq,AZO膜厚度約為665nm,表面顆粒大小均一、晶界清晰,方均根粗糙度僅為1.63nm。通過(guò)對(duì)AZO膜進(jìn)行化學(xué)刻蝕和表面修飾以獲得自潔功

3、能,在刻蝕濃度0.5%,刻蝕時(shí)間20s條件下AZO薄膜綜合性能較好,接觸角為147.43°,面電阻為6.76×103Ω/sq,平均可見(jiàn)光透過(guò)率約為80%,此時(shí)方均根粗糙度為68.26nm。
　　采用射頻磁控濺射法制備透明導(dǎo)電AZO膜時(shí),功率為200W時(shí),性能最優(yōu),此時(shí)平均透過(guò)率達(dá)到80%左右,面電阻為0.55×103Ω/sq,得到的AZO膜厚度約為580nm,表面顆粒大小均一、晶界清晰,方均根粗糙度僅為2.13nm。與前同樣的方法