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![一維納米ZnO半導體材料的摻雜及器件制備.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/16/16/1042d75c-7fd1-4f52-bc40-d18e92ae35ab/1042d75c-7fd1-4f52-bc40-d18e92ae35ab1.gif)
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文檔簡介
1、采用化學氣相沉積(CVD)法,以高純ZnO和活性碳混合粉末為原料,分別以Mg和N為摻雜元素,在Si(111)襯底上制備了不同摻雜濃度的取向ZnO納米線陣列。用X射線衍射儀(XRD),掃描電鏡(SEM),能量色散X射線分析(EDAX),拉曼光譜,透射電鏡(TEM)及熒光光譜分析儀(PL)對樣品的晶體結(jié)構(gòu),形貌、成分組成和光致發(fā)光特性等進行了分析。用霍爾效應測量系統(tǒng)測試了不同配比樣品的載流子濃度。
以Mg為摻雜元素制備Zn1-
2、xMgxO納米線陣列。實驗發(fā)現(xiàn),Zn1-xMgxO納米線陣列中Mg原子相對Zn原子摩爾比X值較小時(X<0.29),XRD衍射譜中只有ZnO晶體標準衍射峰,沒有MgO晶體衍射峰,說明此時制備的Zn1-xMgxO納米線樣品品格結(jié)構(gòu)以ZnO纖鋅礦結(jié)構(gòu)為主,Mg原子只是作為替位或填隙原子分布在ZnO晶體中。但當樣品中X>0.53時,ZnO與MgO的特征衍射峰同時出現(xiàn)在樣品的衍射譜圖中,說明隨原料中Mg原子摩爾比的增加,制備的Zn1-xMgxO
3、納米陣列樣品中ZnO纖鋅礦結(jié)構(gòu)與MgO巖鹽結(jié)構(gòu)將同時存在,樣品呈現(xiàn)多晶體結(jié)構(gòu)形式。實驗還對比了制備的純ZnO與不同配比的Zn1-xMgxO納米線陣列的PL光譜和載流子濃度,發(fā)現(xiàn)隨Mg含量的增加,Zn1-xMgxO陣列紫光發(fā)光峰出現(xiàn)了較明顯的藍移現(xiàn)象,同時,測試結(jié)果也表明,隨Mg含量的增加,Zn1-xMgxO陣列的紫光(376nm)和綠光峰(535nm)發(fā)光強度都有所減弱,樣品的載流子濃度也隨之下降。
在以N為摻雜元素制備的
4、ZnO:N納米線陣列中,N原子作為填隙原子確實摻雜進入ZnO晶體的晶體結(jié)構(gòu)中,并且隨著反應中NH3氣體流量的增加,摻雜到ZnO:N晶體中的N原子逐漸增多。XRD測試結(jié)果顯示,隨著N原子摻雜含量的增加,ZnO:N晶體的(002)易生長面減少。摻雜后的ZnO:N晶體仍為ZnO纖鋅礦結(jié)構(gòu),未產(chǎn)生相分離。掃描電鏡顯示,NH3氣體在ZnO:N晶體的生長過程中影響了產(chǎn)物的表明形貌。最后,實驗采用兩步法,制備了一維納、微米尺度的ZnO:N/ZnO結(jié)構(gòu)
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