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![鎳鈦合金表面羥基磷灰石-多壁碳納米管復(fù)合涂層的制備.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/16/17/cb2726ce-e86c-4cfe-995c-69c97fb29aa5/cb2726ce-e86c-4cfe-995c-69c97fb29aa51.gif)
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1、本文研究了電化學(xué)沉積法在鎳鈦合金表面制備羥基磷灰石/多壁碳納米管復(fù)合涂層的工藝,對(duì)影響涂層的加載電流密度、溶液溫度等參數(shù)進(jìn)行了較為詳細(xì)的研究,使用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線(xiàn)衍射(XRD)、拉曼光譜(Roman spectra)和透射電子顯微鏡(TEM)等分析方法對(duì)獲得的涂層的形貌、組成和結(jié)構(gòu)進(jìn)行了分析。 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:通過(guò)對(duì)碳納米管進(jìn)行表面化學(xué)修飾可以改善碳納米管在水溶液中的分散效果,實(shí)現(xiàn)碳納米管在水溶液中的短時(shí)間分散(小
2、于24h),在有效時(shí)間內(nèi)制備得到羥基磷灰石/多壁碳納米管復(fù)合涂層。調(diào)整工藝參數(shù)可制備出表面形貌為層片狀結(jié)構(gòu)的均勻的涂層。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)電流密度對(duì)涂層的形成存在一個(gè)先促進(jìn)后抑制的作用,在一定范圍內(nèi)(小于30 mA/cm)隨著電流密度的增加,對(duì)表面涂層的形成是有利的,當(dāng)電流密度進(jìn)一步增加(超過(guò)30 mA/cm)時(shí),電流密度的負(fù)面影響開(kāi)始起主導(dǎo)作用。而在本次實(shí)驗(yàn)考察的范圍內(nèi),隨著加熱溫度的升高,對(duì)涂層的形成主要是促進(jìn)作用。最終確定最佳工藝參數(shù)為電流
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