磁控濺射TiNi和TiNiCe合金薄膜的組織結(jié)構(gòu)與光學(xué)特性.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、 本文利用射頻磁控濺射方法制備了TiNi與TiNiCe合金薄膜。通過(guò)掃描電子顯微分析(SEM)、原子力顯微分析(AFM)、X射線衍射分析(XRD)、透射電子顯微分析(TEM)、橢圓偏振法和分光光度光譜法系統(tǒng)地研究薄膜的表面特性、微觀結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性。 分析了TiNi和TiNiCe合金薄膜母相折射率和消光系數(shù)均隨氬氣偏壓的增加而增大；隨濺射功率增大，TiNiCe合金薄膜母相折射率增大，而消光系數(shù)無(wú)明顯變化的特性。

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