1、目的:
　　通過(guò)三維有限元分析，探討上腭微種植體間接支抗對(duì)后牙在三維方向上的支抗控制作用及其連接的最佳牙位，為正畸臨床提供參考。
　　方法:
　　通過(guò)CBCT掃描頭部獲得圖像數(shù)據(jù)，結(jié)合Mimics、Geomagic和Solidworks軟件，建立四組模擬減數(shù)第一前磨牙的上頜骨三維有限元模型，其中模型Ⅰ模擬加入托槽及0.019英寸×0.025英寸的弓絲且第二前磨牙和第一磨牙連續(xù)結(jié)扎;模型Ⅱ在模型Ⅰ的基礎(chǔ)上設(shè)定腭部微種植體

2、并用0.019英寸×0.025英寸的不銹鋼絲將其約束于兩側(cè)上頜第二前磨牙上;模型Ⅲ用0.019英寸×0.025英寸的不銹鋼絲將腭部微種植體約束于兩側(cè)上頜第一磨牙上;模型Ⅳ用0.047英寸×0.047英寸的不銹鋼絲將腭部微種植體約束于兩側(cè)上頜第二前磨牙上。在對(duì)上頜第二前磨牙分別施加2N近中、(牙合)向、腭向作用力條件下，使用Anasys軟件計(jì)算比較四組模型中上頜第二前磨牙及第一磨牙牙周膜應(yīng)力和三維方向的位移。
　　結(jié)果:
　　

3、1、當(dāng)?shù)诙澳パ朗?N近中向作用力時(shí)，與模型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力分別減小了1.8％和0.3％，最大位移分別減小了0.7％和0.8％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力分別減小了1.8％和0.7％，最大位移分別減小了0.8％和1.2％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力分別減小了3.7％和1.7％，最大位移分別減小了3.4％和1.2％。
　　2、當(dāng)?shù)诙澳パ朗?N(牙合)向作用力時(shí)，與模

4、型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力分別減小了3.7％和2.4％，最大位移分別減小了3.4％和3.0％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力分別減小了2.0％和1.6％，最大位移分別減小了2.1％和2.5％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力明顯減小，分別為31.9％和26.2％，最大位移也明顯減小，分別為34.2％和22.0％。
　　3、當(dāng)?shù)诙澳パ朗?N腭向作用力時(shí)，與模型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙

5、、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力分別減小了7.1％和2.1％，最大位移分別減小了4.6％和4.7％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力分別減小了3.2％和1.6％，最大位移分別減小了2.1％和2.7％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應(yīng)力明顯減小，分別為36.8％和31.0％，最大位移也明顯減小，分別為46.6％和30.1％。
　　結(jié)論:
　　1、腭部微種植體支抗無(wú)論連接在上頜第二前磨牙上還是連接在第一磨牙上都能增強(qiáng)