1、隨著微電子學(xué)、微光學(xué)、微機械技術(shù)的迅猛發(fā)展,微細加工技術(shù)也得到了不斷的提高和改進。微光學(xué)元件也在現(xiàn)在通訊、軍事應(yīng)用、空間技術(shù)、超精加工、信息處理、生物醫(yī)學(xué)以及娛樂消費等眾多領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。這使得與微光學(xué)息息相關(guān)的設(shè)計、制作及應(yīng)用技術(shù)也得到了越來越多的重視。 微光學(xué)在設(shè)計理論與制作方法上已有了很大的發(fā)展,為了進一步擴大微光學(xué)元件的應(yīng)用領(lǐng)域,對其制作方法也提出了更多更高的要求。因此,研究便捷、有效、實時、靈活的微光學(xué)元件的制作方

2、法仍然是目前國內(nèi)外微光學(xué)領(lǐng)域的一個極為重要的研究方向。本論文設(shè)計了一個基于DMD的數(shù)字無掩模光刻成像系統(tǒng),對實驗中的影響因素及系統(tǒng)中引入的誤差因素進行了詳細的分析,并提出了相應(yīng)的補償方法及解決方法。其主要工作如下： 第一、在分析目前光刻工藝發(fā)展?fàn)顩r的基礎(chǔ)上,論證了設(shè)計數(shù)字無掩模光刻系統(tǒng)的必要性及緊迫性。通過對DMD芯片的深入分析,獲取設(shè)計中需應(yīng)用的原理及關(guān)鍵參數(shù)。 第二、在學(xué)習(xí)衍射、折射光學(xué)原理的基礎(chǔ)上,提出了三種設(shè)計基