TiN鍍膜玻璃的制備機理及其光學(xué)電學(xué)性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文在全面介紹節(jié)能玻璃的節(jié)能原理、性能評價指標(biāo)和常用制備方法和TiN薄膜的基本物理性能的基礎(chǔ)上，提出制備TiN鍍膜玻璃，使其同時具有低輻射和陽光控制的設(shè)想，并用化學(xué)氣相沉積法制備和研究了TiN薄膜玻璃。文章利用化學(xué)氣相沉積法(APCVD)，以TiCl4和NH3氣體作為反應(yīng)物，以惰性氣體N2作為保護氣體和載氣，在玻璃基板上沉積TiN薄膜。運用XRD、SEM、EDX、四探針電阻測試儀、紫外－可見分光光度計和傅立葉紅外光譜儀等測試手段對制備的

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