1、本文從理論和實(shí)驗(yàn)兩個(gè)方面討論了紫外濾光片的設(shè)計(jì)以及其在真空環(huán)境中的制備。從Maxwell方程組入手，推導(dǎo)了薄膜的特征矩陣，建立了計(jì)算膜系內(nèi)外表面電場(chǎng)強(qiáng)度和磁場(chǎng)強(qiáng)度的導(dǎo)納矩陣，分別對(duì)單層及多層薄膜的反射率變化建立了理論模型。對(duì)經(jīng)典的規(guī)整膜系進(jìn)行優(yōu)化計(jì)算后，設(shè)計(jì)出截止濾光膜膜系。理論分析與計(jì)算結(jié)果表明，44層Ta205／Si02膜系是最優(yōu)化的設(shè)計(jì)結(jié)果，在工作區(qū)間內(nèi)能夠達(dá)到理想的濾光效果。對(duì)薄膜材料的選擇和膜料光學(xué)參數(shù)的提取等問(wèn)題進(jìn)行了詳細(xì)的

2、探討，利用膜料本身的吸收去除了短波方向的雜散光的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了330nm-380nm間的透射。 本文通過(guò)對(duì)真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、膜層厚度監(jiān)控系統(tǒng)的工作原理的詳述，分析了各種工藝條件對(duì)薄膜的光譜性能及物理性能的可能產(chǎn)生的影響。根據(jù)膜層的微觀結(jié)構(gòu)分析結(jié)果，膜層的致密程度是濾光膜的光譜曲線(xiàn)漂移的主要影響因素，據(jù)此提出了離子源輔助熱蒸發(fā)鍍膜的整體解決方案，文中對(duì)目前真空鍍膜工藝中常見(jiàn)到的幾種離子源的工作原理進(jìn)行了簡(jiǎn)要的介紹，在實(shí)際操作中采用離