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![帶有攪拌系統(tǒng)的淬火槽內(nèi)介質(zhì)流場的計算機(jī)模擬.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/16/17/7880149d-5607-4b72-8c56-8ddc273280c0/7880149d-5607-4b72-8c56-8ddc273280c01.gif)
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文檔簡介
1、本文選擇適用于工業(yè)生產(chǎn)的帶有攪拌系統(tǒng)和均流裝置的淬火槽,對淬火介質(zhì)在槽內(nèi)的流場分布進(jìn)行模擬。在專業(yè)CFD前處理器GAMBIT中建立三維淬火槽模型并進(jìn)行有限網(wǎng)格的劃分。判斷淬火介質(zhì)在淬火槽中的流動狀態(tài),選擇標(biāo)準(zhǔn)k-ε雙方程湍流模型作為流場模擬的數(shù)學(xué)基礎(chǔ)。利用專業(yè)CFD軟件FLUENT進(jìn)行求解計算,得到淬火介質(zhì)在三維淬火槽內(nèi)的流場分布情況。分析了淬火槽內(nèi)介質(zhì)的流動特征以及均流裝置對于流場分布的影響;提出了介質(zhì)在淬火槽中“有效淬火區(qū)”的概念;
2、對比了三種淬火介質(zhì)水、光亮淬火油、聚合物PAG溶液在淬火槽內(nèi)流場分布的不同;并研究了淬火槽進(jìn)口速度、光亮淬火油的使用溫度、聚合物濃度對于流場分布的影響。 模擬結(jié)果表明:淬火介質(zhì)在淬火槽內(nèi)的流場分布是不均勻的,在淬火槽內(nèi)均流裝置的反射作用下,介質(zhì)在槽內(nèi)形成一股向上的均勻流動,同時在槽內(nèi)形成一個湍流漩渦,漩渦中心的流速非常低。淬火槽內(nèi)的局部均勻流動區(qū)域可以被確定為有效淬火區(qū),在有效淬火區(qū)內(nèi)淬火可以使工件獲得所需要的組織和性能,提高淬
3、火質(zhì)量。淬火槽均流裝置的位置及尺寸的不同會影響有效淬火區(qū)的位置和形狀。 提高淬火槽的進(jìn)口速度不會改變介質(zhì)流場在槽內(nèi)分布的規(guī)律,但是進(jìn)口速度的提高會加劇淬火槽內(nèi)流場分布的不均勻性。光亮淬火油在淬火槽內(nèi)的流動方向性非常強(qiáng),它在淬火槽中的有效淬火區(qū)域比水的狹窄得多,這是因為光亮淬火油的運(yùn)動粘度比水大得多。而且光亮淬火油的運(yùn)動粘度隨使用溫度的變化而變化,溫度越高運(yùn)動粘度值越低,越有利于其流動。提高使用溫度會使光亮淬火油在淬火槽內(nèi)的湍流發(fā)
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