微波電子回旋共振法沉積的非晶碳化硅薄膜結(jié)構(gòu)和性能研究.pdf_第1頁(yè)
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1、蘇州大學(xué)碩士學(xué)位論文微波電子回旋共振法沉積的非晶碳化硅薄膜結(jié)構(gòu)和性能研究姓名：賀潔申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別：碩士專業(yè)：材料物理與化學(xué)指導(dǎo)教師：寧兆元辛煜20070401AbstractThestructuralmodulabilityandchemicalstabilityofhydrogenatedamorphousSiliconCarbide(aSixCl《：H)fihm1]lakesitsuitableasabarrierlayerforlo

2、wKporousdieleotricfilmsWehaveprepareditusingmicrowaveelectroncyclotronresollailcechemicalvapordeposifion(ECRCVD)methodunderdifferentsubstratetemperatureandgasflowratiosRR早【CH4】／(【CH4】【SiH4】【Ar】)Theplasmapropertiesstructu

3、ralevolutionandpropel啦esofthepreparedaSixCtx：Hfilmswe∞investigatedbyanop石calemissionspectroscopy(OES)，F(xiàn)ouriertransforminfraredspectroscopy(FTIR)andultravioletvisible(UVVIS)spectrometerrespectivelyResultsshowsthat：HandCHe

4、missionintensifiesincreasewithRwhilethatofSiHdecrease；theaSixct《：Hfilmsturnedfromsiliconrichstatetocarbonrichstatewiththeincreaseof民itisspeculatedthatthephaseandcompositionevolutionoftheaSixCl《：Hfilmisthecriticalfactorwh

5、ichleadstothechadlgeofthefilmsoptical姍彰Ipanddielectricconstant；thelekagecurrentoflowKporousSiCOHfilmsismuchdecreasedwhilethedielectricconstantdoesn’tchangebydepositinga20nmthickaSil《Cx：HfilmatRequalsto065andsubsUatetempe

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