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![Na-Mg摻雜ZnO薄膜的Sol-Gel制備與特性的研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/16/17/3af724b4-c95b-4311-a65c-d663a0b52a09/3af724b4-c95b-4311-a65c-d663a0b52a091.gif)
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1、氧化鋅(ZnO)是一種典型的Ⅱ-Ⅵ族寬帶隙化合物半導(dǎo)體材料,屬于六角晶系6mm點(diǎn)群,它的禁帶寬度為3.37eV,激子束縛能為60meV。氧化鋅晶體在c軸垂直面上具有對(duì)稱的電學(xué)性質(zhì)和彈性,而在c軸方向擇優(yōu)取向的多晶薄膜具有單晶體似的壓電性和光電性質(zhì)。這些突出的物理特性和平整均勻的表面形貌,使得ZnO薄膜可以廣泛應(yīng)用于集成系統(tǒng)。此外,氧化鋅作為壓電薄膜具有較高的電阻率,在集成光學(xué)上的應(yīng)用則要求有較高的透過(guò)率和折射率。為了進(jìn)一步發(fā)展氧化鋅在發(fā)
2、光管、紫外光探測(cè)器、表面聲波器件、壓敏電阻器件等方面的應(yīng)用,人們往往通過(guò)摻雜來(lái)提高氧化鋅的上述性能。其中,人們發(fā)現(xiàn)在含鋰的Li:ZnO薄膜中再摻入Mg2+離子后,不僅可以增強(qiáng)薄膜的電阻,還可以提高薄膜的相對(duì)密度。 本論文中,在充分理解了氧化鋅晶體結(jié)構(gòu)、氧化鋅薄膜的壓電和光電特性、多層薄膜外延生長(zhǎng)緩沖層和集成光學(xué)上的應(yīng)用,以及各種氧化鋅薄膜制備技術(shù)的基礎(chǔ)上,選取了溶膠—凝膠方法,在Na-Mg共同摻雜的條件下,于玻璃襯底上制備p-型
3、導(dǎo)電ZnO薄膜。并研究了不同摻雜濃度時(shí)系列ZnO薄膜的電學(xué)性質(zhì)和光學(xué)特性,深入探討了溶膠—凝膠旋涂法制備氧化鋅薄膜的工藝特征。 在薄膜結(jié)構(gòu)表征中,運(yùn)用XRD和SEM手段對(duì)樣品的表面形貌和相結(jié)構(gòu)進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:不同濃度的Na-Mg離子,對(duì)ZnO薄膜的結(jié)晶效果有很大的影響,合理的摻雜比例能取得良好的c軸取向。摻Na和Mg的氧化鋅薄膜有較好的結(jié)晶度和表面形貌平整度。 同時(shí),運(yùn)用Hall效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)和紫外一可見(jiàn)分光光度計(jì),
4、對(duì)Na和Mg摻雜的氧化鋅薄膜的光電性能及能帶結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,得出以下結(jié)論:(1)Na-Mg共摻雜實(shí)現(xiàn)了ZnO薄膜P型導(dǎo)電,且有良好的導(dǎo)電特性,載流子濃度達(dá)到78.0x10ncm-3,電阻率0.57x105Ω·cm。(2)Na-Mg共摻雜的ZnO薄膜在可見(jiàn)光區(qū)域具有良好的透射率,能夠達(dá)到90%以上。(3)薄膜的光學(xué)能隙隨著Mg摻雜濃度的增加而增大,是因?yàn)楸∧ぶ蠱gO含量的提高可使MgZnO晶體薄膜的禁帶寬度增大。而隨著Na摻雜濃度的增大薄
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