1、本文綜合應用行為學、事件相關電位手段及腦電地形圖的技術，探討面孔領域的內隱記憶與外顯記憶的關系，面孔內隱下的正性表情和負性表情的關系以及面孔角度的時空特性。主要內容如下： 1．研究了面孔內隱的腦加工機制及面孔內隱與外顯的區(qū)別 采用在快速呈現(xiàn)刺激并轉移被試注意力的條件下讓被試加工分心物來控制對面孔的加工水平，并采用新舊判斷,分析再認出舊面孔與新面孔(外顯記憶),以及未再認出舊面孔與新面孔(內隱記憶)的差異。實驗分為高負荷和

2、低負荷兩個層次，從而探討了不同負荷條件對內隱加工的影響。本文還對個體差異現(xiàn)象、“N400效應”、“P600效應”、交叉翻轉現(xiàn)象進行了深入研究，并結合腦電地形圖從結構上探索面孔內隱及外顯兩個系統(tǒng)的分離特征。結果顯示外顯記憶從刺激后400ms開始,主要表現(xiàn)在前部腦區(qū),而內隱記憶主要表現(xiàn)在刺激后300ms-500ms的中央區(qū)和頂區(qū)，N400效應與LPC效應代表不同加工過程。在單一的再認過程中,外顯記憶和內隱記憶的腦機制產生了分離,ERPs時空

3、特性不同。 2．研究了內隱條件下中性面孔和表情面孔的區(qū)別與聯(lián)系及正性表情和負性表情的區(qū)別與聯(lián)系 面孔內隱表情識別的ERP 研究采用“學習－測試”面孔經典實驗范式。學習階段呈現(xiàn)“面孔漢字圖片”讓被試記憶圖片中的漢字、面孔及漢字與面孔的搭配；再認階段采用新舊判斷,分析再認出舊漢字、舊面孔及舊面孔漢字圖片的ERP 波形。本文對加工速度，加工區(qū)域，半球效應，特異性成分等目前存在爭議的幾個方面進行了探討。結果顯示面孔特異性成分N1

4、70 和VPP 以及其后的P200，N270 和LPC 成分都可以在帶表情面孔的ERP 波形中找到。在450ms-850ms 之間，愉快表情所引發(fā)的晚期成分和憤怒表情所引發(fā)的晚期成分有明顯的差別。負性情緒加工存在半球差異。 3．對面孔側臉角度加工過程進行了初步探索 面孔角度的ERP實驗對比了面孔側臉和面孔倒置的ERP波形，結果顯示N170波幅隨角度的增加而減小，但潛伏期的延遲情況在不同腦區(qū)情況不同，對側臉面孔的加工過程與