1、隨著半導體工業(yè)的不斷發(fā)展，基片面積越來越大，這些器件在集成度、超微線寬、縱深比、對準精度等指標的要求越來越高，這對光刻機的控制系統(tǒng)也提出了更高層次的要求，需要控制系統(tǒng)實現(xiàn)基片與掩模精確找平和高精度對準，同時做到操作簡單，靈活性強，可靠性高。論文根據(jù)雙面光刻機性能指標的要求，對控制系統(tǒng)需求進行了分析，從運動控制和系統(tǒng)軟件兩個方面進行了研究與設計。 整機控制系統(tǒng)采用分布式結構，閉環(huán)控制的方法，從控制器和執(zhí)行電機兩個主要環(huán)節(jié)對運動控制

2、系統(tǒng)進行了分析。對直流伺服電機進行了建模，分析了直流伺服電機及減速組件的具體選型及應用。對PID控制器進行分析，優(yōu)化PID控制參數(shù)，提高對準工作臺的響應速度和定位精度，滿足性能指標要求。 系統(tǒng)軟件采用WIN2000操作系統(tǒng)為開發(fā)平臺、vC++作為開發(fā)工具，確定采用模塊化的設計思想，設計編寫了雙面光刻機的系統(tǒng)控制程序，并進行了可靠性設計，使其具有動態(tài)故障檢測診斷、自動保護功能，提高了控制軟件的可靠性，實現(xiàn)了雙面光刻機的控制功能。采