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![4H-SiC載流子壽命增強(qiáng)方法研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/17/2bb374f0-9923-49f1-9bd7-bd79ecef47ca/2bb374f0-9923-49f1-9bd7-bd79ecef47ca1.gif)
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文檔簡介
1、目前,SiC雙極器件在超高壓(UHV)功率器件領(lǐng)域的應(yīng)用還存在一個(gè)熱點(diǎn)問題,即SiC材料的載流子壽命問題。4H-SiC材料由于具有大的禁帶寬度,高的擊穿電場以及高的熱導(dǎo)率等優(yōu)點(diǎn)被廣泛應(yīng)用到高溫、高壓以及大功率半導(dǎo)體器件的制備當(dāng)中。在4H-SiC雙極器件中,漂移層的電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng)決定了器件的正向壓降,并且強(qiáng)烈的依靠于漂移層的載流子壽命,即4H-SiC材料壽命越長,其電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng)越大。而在4H-SiC材料中限制載流子壽命的主要缺陷為 Z1/2
2、深能級(jí)陷阱。因此,為了使得超高壓雙極器件具有更小的開態(tài)損耗和更低的正向壓降,降低4H-SiC材料中深能級(jí)陷阱Z1/2從而相應(yīng)的增強(qiáng)其載流子壽命就變得越來越重要。
目前國內(nèi)外比較常用的降低4H-SiC材料的主要壽命限制缺陷Z1/2,即增強(qiáng)4H-SiC材料壽命的技術(shù)手段有:C(碳)或Si(硅)離子注入、高溫?zé)嵫趸约氨砻驸g化處理等。本文主要采用C(碳)離子注入技術(shù)手段,即對(duì)NPP結(jié)構(gòu)的4H-SiC外延片進(jìn)行C(碳)離子注入,并使用
3、DLTS(深能級(jí)瞬態(tài)譜)研究了C(碳)離子注入對(duì)4H-SiC材料中壽命限制缺陷的影響,且進(jìn)一步制備了外延層經(jīng)過C(碳)離子注入的4H-SiC PiN二極管,通過其正反向特性研究了4H-SiC外延材料壽命增強(qiáng)后的PiN二極管的特性。本文主要從以下幾個(gè)方面進(jìn)行了展開研究:
首先,通過Silvaco半導(dǎo)體仿真軟件對(duì)實(shí)驗(yàn)中C(碳)離子注入的能量和劑量進(jìn)行了仿真設(shè)計(jì)。仿真結(jié)果顯示,本次實(shí)驗(yàn)的C(碳)離子注入的最佳條件為:500℃條件下,
4、C(碳)離子注入的能量和劑量最佳組合分別為80keV,5×1014cm-2和120keV,9×1014cm-2,其中注入掩膜層SiO2的厚度為0.2um。
其次,通過DLTS(深能級(jí)瞬態(tài)譜)對(duì)加C(碳)離子注入的4H-SiC二極管樣品進(jìn)行測試分析,結(jié)果表明,通過C(碳)離子注入的4H-SiC外延片其主要壽命限制缺陷Z1/2的濃度顯著降低,且很大程度上表明了半導(dǎo)體材料中載流子壽命的增強(qiáng)。
最后,研究了壽命增強(qiáng)后的4H-
5、SiC PiN二極管的正反向性能。從正向I-V(電流-電壓)特性可以得出,經(jīng)過碳離子注入的PiN二極管的正向電壓在3.3V左右,比未經(jīng)碳離子注入的PiN二極管低得多。經(jīng)過碳離子注入的PiN二極管的差分導(dǎo)通電阻為4.38mΩ·cm2@100A/cm2,比未經(jīng)碳離子注入的PiN二極管降低了大約50%。對(duì)經(jīng)過碳離子注入的PiN二極管,測得了其溫度從25℃變化到180℃時(shí)的正向特性,從測試結(jié)果可以看出,PiN二極管的正向壓降隨著溫度的升高而減小
6、。從反向I-V(電流-電壓)特性可以看出,經(jīng)過碳離子注入處理的二級(jí)管樣品的反向漏電也明顯有所下降。從器件的反向擊穿特性曲線得出C離子注入對(duì)4H-SiC PiN二極管的反向耐壓幾乎沒有影響,最后,通過對(duì)壽命增強(qiáng)后的4H-SiC PiN二極管的反向恢復(fù)特性進(jìn)行仿真,結(jié)果表明載流子壽命越長,對(duì)應(yīng)的二極管的反向恢復(fù)時(shí)間就越長。因此,我們可以得出,降低4H-SiC外延材料中的Z1/2深能級(jí)缺陷可以顯著地提高其載流子壽命,并且進(jìn)一步可以使得4H-S
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