共沉淀法制備鉍取代釔鐵石榴石磁光薄膜的研究_第1頁
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1、浙江大學(xué)碩士學(xué)位論文共沉淀法制備鉍取代釔鐵石榴石磁光薄膜的研究姓名:董博申請學(xué)位級別:碩士專業(yè):材料學(xué)指導(dǎo)教師:張溪文20050101摘要磁光記錄是目前發(fā)展最完備的可擦除重寫式光記錄技術(shù)。從記錄密度角度考慮,由于光衍射的限制,最小記錄尺、r與激光源的波長成正比。因此傳統(tǒng)的磁光記錄介質(zhì)一稀十金屬與過渡組金屬的合金就表現(xiàn)出局限性,因為這種材料在短波長范圍的磁光效應(yīng)很小。而且在沒有很好封裝的情況下,它的化學(xué)穩(wěn)定性很差。鉍取代釔鐵石榴石在短波長

2、范圍有巨大的磁光效應(yīng),而且它的化學(xué)穩(wěn)定性良好。這種材料吸引人們的,。泛研究并被看作最具前景的下一代磁光記錄介質(zhì)。在本文的綜述部分,茸先介紹了什么是磁光效應(yīng),并且總結(jié)了不同類別的磁光材料。然后著重介紹了鐵石榴石磁光材料的結(jié)構(gòu)、磁學(xué)與磁光學(xué)性能、和它的發(fā)展歷程。接下來介紹了Bi—YIG材料在目前的應(yīng)用,例如磁光隔離器、磁光電流/磁場傳感器和磁光記錄等。最后比較了不同解釋磁光現(xiàn)象的理論模型。本文實驗研究由以下四部分組成:1共沉淀法制備Bi—Y

3、IG納米顆粒。討論了PH值、研磨時間和熱處理條件對BiYIG納米顆粒結(jié)晶情況和晶粒尺寸的影響。2共沉淀法加旋轉(zhuǎn)鍍膜法制備磁光復(fù)合薄膜。研究了熱處理條件對薄膜法拉第旋轉(zhuǎn)角、散射系數(shù)和磁光優(yōu)質(zhì)的影響。在波長633nm的激光下測量,最佳熱處理條件下制備的薄膜的磁光優(yōu)質(zhì)可達(dá)47。。在這一章中還介紹了磁光效應(yīng)的測試方法。3高溫?zé)峤庋跹趸锍恋矸ㄖ苽銪iYIG多晶薄膜。這是一種新發(fā)明的制備Bi—Y1G多品薄膜方法。這種方法可以有效的把薄膜中晶粒的尺

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