1、與傳統(tǒng)澆注切削相比，微量潤(rùn)滑可大大減少切削液用量，降低加工成本，并且在某些條件下能獲得相等甚至更好的加工性能。但該技術(shù)使用壓縮空氣作為霧滴傳送載體，造成加工區(qū)霧滴顆粒濃度增加，對(duì)環(huán)境產(chǎn)生不利影響，并且潤(rùn)滑油在加工高溫下潤(rùn)滑性能下降甚至喪失。這些已成為微量潤(rùn)滑技術(shù)發(fā)展的瓶頸。為此，本文提出微量納米流體靜電霧化切削新技術(shù)，旨在進(jìn)一步提高加工性能，改善加工環(huán)境。主要研究工作包括以下幾個(gè)部分：
　　1、基于靜電場(chǎng)仿真的靜電霧化切削優(yōu)化研究

2、
　　提出靜電霧化切削構(gòu)想，采用Ansoft maxwell軟件構(gòu)建噴嘴與刀具間靜電場(chǎng)有限元模型，研究了荷電電壓、噴嘴空間角度與直徑、電極間距對(duì)靜電場(chǎng)強(qiáng)的影響，獲得了上述因素對(duì)噴嘴與刀具間靜電場(chǎng)強(qiáng)影響規(guī)律和優(yōu)化的噴嘴空間角度與直徑。
　　2、基于高速攝影的微量納米流體靜電霧化模式研究
　　構(gòu)建靜電霧化切削平臺(tái)，利用高速攝影技術(shù)在此平臺(tái)上進(jìn)行了石墨水基、油基納米流體靜電霧化形態(tài)與模式試驗(yàn)，研究了荷電電壓、納米流體流量、噴

3、嘴空間角度、電極間距對(duì)霧化形態(tài)與模式的影響，確定了靜電霧化模式轉(zhuǎn)換臨界條件及穩(wěn)定錐射流時(shí)納米流體電壓與流量范圍，為實(shí)施對(duì)刀具有效冷卻提供依據(jù)。
　　3、基于高速攝影的微量納米流體靜電霧化霧滴速度研究
　　研究了穩(wěn)定錐射流時(shí)納米流體霧滴計(jì)算方法，分析了荷電電壓、納米流體流量、噴嘴空間角度、電極間距對(duì)石墨水基、油基納米流體霧滴速度的影響，發(fā)現(xiàn)霧滴速度隨納米流體流量、電極間距增大而減少，隨著荷電電壓的增高而增加；同等條件下水基納米