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![基于CdSSe-ZnS量子點(diǎn)的QLED器件結(jié)構(gòu)優(yōu)化及性能研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/6/23/fc0a14cd-03ac-4afb-bb0c-083809ca469a/fc0a14cd-03ac-4afb-bb0c-083809ca469a1.gif)
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1、基于溶液法制備的核殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)(Quantum Dot,QD)具有獨(dú)特的性能:相比于有機(jī)發(fā)光材料,其具有耐水氧穩(wěn)定性好、發(fā)光色純度高、發(fā)光效率高、發(fā)光光譜隨量子點(diǎn)尺寸可調(diào)控等特征,成為近年來(lái)平板顯示行業(yè)研究的熱點(diǎn)。以量子點(diǎn)作發(fā)光層的量子點(diǎn)發(fā)光二極管(Quantum Dot Light-Emitting Diodes,QD-LED)相比于有機(jī)電致發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diodes,OLED)具有更低的功
2、耗、更長(zhǎng)的壽命、更低廉的制造成本,很有希望成為下一代平板顯示技術(shù)。但是由于當(dāng)前的研究尚處于初級(jí)階段,很多性能問(wèn)題亟需解決,如:器件發(fā)光效率低、亮度不理想、壽命短等,本文主要通過(guò)以下方法提高量子點(diǎn)發(fā)光器件的性能。具體研究?jī)?nèi)容如下:
(1)在器件中引入無(wú)機(jī)半導(dǎo)體傳輸材料納米ZnMgO和納米ZnO,以納米ZnMgO和納米ZnO作電子傳輸層,全溶液法制備了量子點(diǎn)發(fā)光器件(a:ITO/PEDOT∶PSS/PVK/QD/ZnO/Al,b:
3、ITO/PEDOT∶PSS/PVK/QD/ZnMgO/Al)。通過(guò)測(cè)試兩組器件的電流-電壓-亮度-發(fā)光光譜分析了納米ZnMgO和納米ZnO作電子傳輸層對(duì)量子點(diǎn)發(fā)光器件影響。結(jié)果表明:納米ZnMgO相對(duì)于納米ZnO電子遷移率更高,且與量子點(diǎn)能帶之間的注入勢(shì)壘更低,這可以使電子更高效的注入,因此納米ZnMgO器件的性能要優(yōu)于納米ZnO器件的性能。納米ZnMgO器件亮度高達(dá)1722cd/m2,啟亮電壓為1.9V,電流效率為4.36cd/A,器
4、件的電壓承受能力更強(qiáng),9V時(shí)器件才發(fā)生擊穿猝滅。實(shí)驗(yàn)中創(chuàng)新性的將納米ZnMgO應(yīng)用在QLED器件上,對(duì)優(yōu)化器件性能有重要意義。
(2)量子點(diǎn)發(fā)光二極管中發(fā)光層制備的工藝條件會(huì)影響器件的性能和穩(wěn)定性,實(shí)驗(yàn)中對(duì)其進(jìn)行探索和優(yōu)化。首先系統(tǒng)分析了量子點(diǎn)的膜層厚度對(duì)量子點(diǎn)薄膜形貌及器件光電性能的影響,結(jié)果表明:量子點(diǎn)層厚度在16nm和12nm時(shí),量子點(diǎn)的團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重;隨著量子點(diǎn)層厚度的降低,薄膜表面粗糙度也隨著降低,同時(shí)量子點(diǎn)的團(tuán)聚現(xiàn)象
5、減弱;當(dāng)量子點(diǎn)層厚度與量子點(diǎn)粒徑(約為10nm)相當(dāng)時(shí),量子點(diǎn)呈單層排列且團(tuán)聚現(xiàn)象消失;當(dāng)量子點(diǎn)厚度低于10nm時(shí),薄膜出現(xiàn)孔洞缺陷。器件的光電性能測(cè)試結(jié)果顯示:10nm厚度的發(fā)光層器件性能最優(yōu),其具有最低的啟亮電壓2.1V,最高的亮度1782cd/m2。其次分析了量子點(diǎn)薄膜制備過(guò)程中退火溫度對(duì)量子點(diǎn)及器件性能的影響。熱重分析結(jié)果表明:量子點(diǎn)在由溫度120℃升高到160℃時(shí),引起量子點(diǎn)表面絕緣配體的脫落,量子點(diǎn)重量不斷減小;退火溫度為1
6、60℃時(shí),此時(shí)器件性能最高:亮度為1622cd/m2,啟亮電壓僅為2.0V;在溫度超過(guò)160℃時(shí),量子點(diǎn)重量迅速降低,由于配體的大量脫落,降低了其量子產(chǎn)率,因此器件的性能降低。
(3)實(shí)驗(yàn)中使用的基礎(chǔ)器件結(jié)構(gòu)(ITO/PEDOT∶PSS/PVK/QD/ZnMgO/Al),經(jīng)測(cè)試是電子富余型器件。通過(guò)提高器件的空穴注入能力來(lái)提升器件性能,使用甲醇溶液對(duì)PEDOT∶PSS薄膜進(jìn)行處理,原子力顯微鏡測(cè)試結(jié)果表明:經(jīng)甲醇處理的PEDO
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