基于干膜掩模的電解加工微小凹坑陣列試驗(yàn)研究.pdf_第1頁(yè)
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1、物體表面具有一定的表面織構(gòu)會(huì)對(duì)其摩擦特性產(chǎn)生明顯影響,作為表面織構(gòu)的一種,微坑陣列結(jié)構(gòu)常被應(yīng)用于活塞缸套等物體表面,起到儲(chǔ)油減磨的效果。加工微坑陣列的方法有多種,其中掩模電解加工由于加工效率高,工具電極無(wú)損耗,加工表面質(zhì)量好,無(wú)殘余變形等優(yōu)點(diǎn),在加工微坑陣列方面有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。本文提出使用干膜制備掩模并進(jìn)行基于干膜掩模的電解加工微坑陣列試驗(yàn)研究,主要完成的工作如下:
 ?。?)開展了基于干膜的掩模制備試驗(yàn)研究,提出一種新的掩模制備的

2、光刻工藝方法,并研究了曝光時(shí)間、顯影時(shí)間等對(duì)其結(jié)果的影響,優(yōu)選了參數(shù)。為后續(xù)掩模電解加工試驗(yàn)奠定了良好的基礎(chǔ)。
 ?。?)構(gòu)建了干膜掩模電解加工微坑陣列試驗(yàn)系統(tǒng),主要包括:機(jī)床本體、電解液循環(huán)系統(tǒng)、電源系統(tǒng)、夾具等。提出使用側(cè)沖的沖液方式進(jìn)行掩模電解加工,設(shè)計(jì)側(cè)沖夾具并優(yōu)化,以確保掩模與工件的緊密貼合。
 ?。?)開展了干膜掩模電解加工微坑陣列試驗(yàn)研究,研究各個(gè)工藝參數(shù),如加工間隙、電解液壓力、干膜掩??讖?、加工電壓、加工時(shí)

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