聚酰亞胺基耐電暈、高導(dǎo)熱微納米復(fù)合材料的制備及其電氣絕緣性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著變頻調(diào)速技術(shù)的發(fā)展,鐵路牽引電機(jī)廣泛應(yīng)用交流變頻調(diào)速技術(shù)。聚酰亞胺作為變頻調(diào)速電機(jī)絕緣材料受到電暈及熱老化作用后容易失效,而現(xiàn)代電力工業(yè)的快速發(fā)展對絕緣材料的性能和可靠性提出了更高的要求,所以迫切需要對傳統(tǒng)絕緣材料進(jìn)行改性或開發(fā)新型高性能絕緣材料。近年,聚合物基無機(jī)微納米復(fù)合電介質(zhì)已經(jīng)成為電氣絕緣領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。本文設(shè)計(jì)并制備了聚酰亞胺基BN無機(jī)微納米復(fù)合薄膜,研究不同摻雜組分及不同摻雜類型復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)特征、電氣絕緣性能和導(dǎo)熱能力

2、,為研制新型微納米復(fù)合電介質(zhì)提供一定的實(shí)驗(yàn)和理論依據(jù)。
  通過原位聚合法制備不同含量的BN微米片和納米顆?;旌蠐诫s聚酰亞胺薄膜和BN納米片摻雜聚酰亞胺薄膜,采用偏光顯微鏡和掃描電鏡對不同摻雜類型、不同摻雜組分聚酰亞胺復(fù)合薄膜的表面形貌和結(jié)構(gòu)特征進(jìn)行了研究,發(fā)現(xiàn)BN納米片在聚酰亞胺基體中的分散狀態(tài)較好,與聚合物有較好的相容性,而BN微米片和納米顆粒則會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象。
  微納米摻雜會(huì)使聚酰亞胺薄膜的擊穿場強(qiáng)出現(xiàn)先增大后減小的

3、現(xiàn)象,當(dāng)摻雜含量為1%時(shí),微米片和納米顆粒復(fù)合薄膜及納米片復(fù)合薄膜的擊穿場強(qiáng)達(dá)到最大,分別為219.6 kV/mm和230.6 kV/mm。微納米摻雜使復(fù)合聚酰亞胺(PI)薄膜的介電常數(shù)和介質(zhì)損耗大于純PI薄膜,且隨著摻雜量的增加,介電常數(shù)和介質(zhì)損耗增大。I-t曲線測試結(jié)果表明,在低溫下復(fù)合介質(zhì)的電導(dǎo)電流大于純PI薄膜,而在高溫下復(fù)合介質(zhì)的電導(dǎo)電流小于純PI薄膜。微納米摻雜后的復(fù)合PI薄膜的電阻率小于純PI薄膜,且隨著摻雜含量的增大逐步

4、減小,當(dāng)摻雜含量為20%時(shí),微米片和納米顆粒復(fù)合及納米片復(fù)合PI薄膜的電阻率分別下降為4.1×1016Ω·m和4.9×1016Ω·m。
  使用電暈老化實(shí)驗(yàn)裝置測試了PI薄膜的耐電暈老化時(shí)間,結(jié)果表明隨著摻雜含量的增加,PI薄膜的耐電暈老化能力逐步增強(qiáng),當(dāng)微米片和納米顆粒及納米片摻雜含量為20%時(shí),復(fù)合PI薄膜的耐電暈老化時(shí)間分別是純PI薄膜的116.7倍和110倍。
  使用導(dǎo)熱系數(shù)測定儀測試了PI薄膜的導(dǎo)熱系數(shù),結(jié)果表明

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