1、隨著薄膜材料和技術的不斷發(fā)展,準確而快速地測量薄膜的光學常數(shù)和厚度受到了人們的廣泛關注和重視.但對某些吸收性很強或厚度極薄的樣品,采用普通的測試方法無法實現(xiàn),而橢偏術恰能彌補此不足,且還具有較多的誘人優(yōu)點故備受青睞.特別在納米技術迅速發(fā)展的今天,這種能準確測量納米級薄膜技術的橢偏術在眾多的領域中更是扮演著舉足輕重的作用.有效避開偽解,尋找到真值,提高薄膜參數(shù)的精度一直是具有非破壞性和高靈敏度的橢偏測量術的難點,解決此問題具有十分重要的科

2、學應用價值.該論文依據(jù)橢偏測量法的求解過程,主要針對模型的有效選取、數(shù)值優(yōu)化反演算法的選擇和橢偏參數(shù)測量精度的提高三方面,分別進行了分析和討論,其目的是通過對它們的分析從而進行有效的選擇,以達到經(jīng)過各個部分的改進最終提高求解結(jié)果中薄膜參數(shù)值的精度.論文首先系統(tǒng)討論了模型有效選取的重要性、選取辦法以及應注意的橢偏參數(shù)靈敏區(qū)域和入射角的選擇:其次,基于前人研究模擬退火算法的基礎上,針對其不足之處提出了采用兩種不同的測量誤差的方法并進行了研究