1、本論文以開發(fā)一種新型光電功能電極材料為目標，分別采用磁控濺射法、溶膠凝膠法先在導電玻璃（ITO）上制備N摻雜TiO2薄膜，然后通過一種簡便的化學沉積法（CBD）在TiO2-xNx薄膜上沉積一層多孔結構的NiO薄膜，構建出TiO2-xNx/NiO雙層薄膜，采用XRD、SEM、XPS、紫外可見吸收光譜和電化學測試等對薄膜的微觀結構、光電致色和光電化學儲能等特性進行了研究。
　　 以金屬鈦為靶材、O2/N2/Ar混合氣為濺射氣體，在I

2、TO玻璃表面磁控濺射一層薄膜，再經300-500℃退火處理制備了氮摻雜TiO2薄膜。研究表明，400℃退火處理的氮摻雜TiO2薄膜具有最高的光電流響應，TiO2-xNx/NiO雙層薄膜具有明顯的光電致色特性，經氙燈照射1 h后，薄膜從無色變成棕色，500 nm波長處光透過率從79.0％下降至12.6％。光充電后，電極在100 nA下放電時間為11 h。
　　 利用溶膠凝膠法在ITO表面制備一層薄膜，再經300-500℃退火處理制

3、備了氮摻雜TiO2薄膜。研究表明，所制備的ITO/TiO2-xNx/NiO雙層薄膜具有明顯的光電致色特性，500℃制備的氮摻雜TiO2薄膜具有較高的光電流響應，經氙燈照射1 h后，薄膜從無色變成棕色，400 nm波長處光透過率從83.5％下降至32.9％。光充電后，電極在100 nA下放電時間為4.2 h。
　　 此外，先在導電玻璃（ITO）表面磁控濺射一層TiN薄膜，再經300-500℃空氣氛中退火處理制備了氮摻雜TiO2薄膜