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![超聲霧化法制備Er3+摻雜SnO2薄膜結(jié)構(gòu)與性質(zhì)研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/18/fb6d1335-ef17-409c-b34f-b190ed5fad69/fb6d1335-ef17-409c-b34f-b190ed5fad691.gif)
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1、二氧化錫是一種n型寬禁帶半導(dǎo)體材料。傳統(tǒng)上,SnO2薄膜被廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電薄膜、氣敏傳感器和太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。近年來(lái),越來(lái)越多的研究者開(kāi)始關(guān)注SnO2薄膜納米粒子的制備技術(shù)及新的光電性質(zhì)的研究,它被認(rèn)為是下一代最具潛力的光電材料之一。尤其是二氧化錫摻稀土元素鉺離子,發(fā)出1540nm的紅外光,正好對(duì)應(yīng)于石英光纖的最小吸收波長(zhǎng),在光纖傳輸與光電子器件中起著很重要的作用。
本文研究了超聲霧化法制備薄膜工藝。以SnCl4·5H2
2、O作為前驅(qū)體溶液和ErCl3·6H2O作為摻雜劑,在玻璃襯底和硅片襯底上分別沉積不同工藝參數(shù)的摻鉺SnO2薄膜。主要研究了超聲霧化器中前驅(qū)液濃度,載氣流量和襯底溫度對(duì)摻鉺二氧化錫薄膜的導(dǎo)電率和透過(guò)率的影響,以及鉺摻雜濃度和退火溫度對(duì)摻鉺SnO2薄膜的結(jié)構(gòu)和光致發(fā)光性能的影響。利用X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡、四探針電阻儀、分光光度計(jì)和熒光光譜儀等測(cè)試手段對(duì)薄膜進(jìn)行結(jié)構(gòu)和性能的測(cè)試。X-射線衍射圖和SEM圖表明,超聲霧化法制備的
3、摻鉺SnO2薄膜具有純金紅石結(jié)構(gòu)和相當(dāng)高的結(jié)晶形態(tài),且薄膜表面較平整,薄膜粒子大小隨著摻鉺濃度的增大而減小。通過(guò)對(duì)薄膜導(dǎo)電率和透過(guò)率的測(cè)試,結(jié)果表明:當(dāng)前驅(qū)液濃度為0.25mol/L,襯底溫度為450℃,載氣流量為400L/h時(shí),用超聲霧化法制備的二氧化錫摻鉺薄膜較均勻和透明。用熒光光譜儀對(duì)SnO2薄膜進(jìn)行光譜測(cè)量,激發(fā)光為266nm,結(jié)果發(fā)現(xiàn)在室溫下樣品發(fā)出橘黃色的可見(jiàn)光和1540nm的紅外光。經(jīng)PL譜分析后,發(fā)現(xiàn)可見(jiàn)光來(lái)源于二氧化錫
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